公开(公告)号：CN100549735C

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200580046044.7

申请日：2005-12-06

Applicant: ARC工程学院

Inventor： H·克普纳 ,  M·本凯拉

IPC: G02B3/12 ,  G02B1/06

CPC classification number: G02B3/12 ,  B01D67/0032 ,  B01D67/0034 ,  B01D69/122 ,  B01D71/44 ,  B01D2323/10 ,  B05D1/322 ,  B05D1/60 ,  B29C41/003 ,  B29C41/02 ,  B29K2065/00 ,  B29L2031/755 ,  G02B1/06 ,  Y10T428/23 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/24562 ,  Y10T428/31855

Abstract: 本发明涉及膜装置的制备方法，该方法在于：提供基体(24)；沉积液体(16)到该基体；并且通过低压沉积方法，用形成所述膜的塑性材料的均匀连续薄膜(18)覆盖所述液体(16)和至少与所述液体(16)邻接的基体部分。

公开(公告)号：CN101099095A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200580046044.7

申请日：2005-12-06

Applicant: ARC工程学院

Inventor： H·克普纳 ,  M·本凯拉

IPC: G02B3/12 ,  G02B1/06

CPC classification number: G02B3/12 ,  B01D67/0032 ,  B01D67/0034 ,  B01D69/122 ,  B01D71/44 ,  B01D2323/10 ,  B05D1/322 ,  B05D1/60 ,  B29C41/003 ,  B29C41/02 ,  B29K2065/00 ,  B29L2031/755 ,  G02B1/06 ,  Y10T428/23 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/24562 ,  Y10T428/31855

Abstract: 本发明涉及膜装置的制备方法，该方法在于：提供基体(24)；沉积液体(16)到该基体；并且通过低压沉积方法，用形成所述膜的塑性材料的均匀连续薄膜(18)覆盖所述液体(16)和至少与所述液体(16)邻接的基体部分。