公开(公告)号：CN119384266A

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202380046578.8

申请日：2023-06-09

Applicant: AGC株式会社 ,  AGC硅素技术株式会社

Inventor： 有光慎之介 ,  片山肇 ,  近藤雅史 ,  福本浩大 ,  加茂博道 ,  山隅大辅

IPC: A61K8/25 ,  C01B33/193 ,  A61Q1/12

Abstract: 根据本发明，提供一种化妆品用二氧化硅粉末，其为由无定形的二氧化硅颗粒形成的二氧化硅粉末，前述二氧化硅颗粒的平均圆形度为0.75以上，前述二氧化硅粉末满足下述(1)～(3)中的至少任一个条件，(1)聚集度为60％以上、(2)静止角与崩溃角的差角为15度以下、和(3)分散度为50％以下。

公开(公告)号：CN117730054A

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202280052479.6

申请日：2022-07-20

Applicant: AGC株式会社 ,  AGC硅素技术株式会社

Inventor： 加茂博道 ,  片山肇 ,  福本浩大

IPC: C01B33/12

Abstract: 本发明提供介电损耗角正切充分小、与树脂组合物的混合性优异的新的球状二氧化硅粉末。本发明的球状二氧化硅粉末的中值粒径d50为0.5～20μm，比表面积A(m2/g)与中值粒径d50(μm)的积A×d50为2.7～5.0μm·m2/g。

公开(公告)号：CN117615994A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202280047950.2

申请日：2022-06-29

Applicant: AGC株式会社 ,  AGC硅素技术株式会社

Inventor： 片山肇 ,  近藤雅史 ,  福本浩大 ,  高野裕里子 ,  有光慎之介 ,  村上武司 ,  东贤志 ,  山隅大辅

IPC: C01B33/193 ,  A61K8/25 ,  A61Q17/04

Abstract: 本发明提供对于可见光线和紫外线均具有高散射性且还具有顺滑触感的安全性高的颗粒。本发明的光散射性二氧化硅颗粒为具有光散射性的光散射性二氧化硅颗粒，在颗粒内部具有呈闭孔结构的多个中空部，前述光散射性二氧化硅颗粒的50％粒径为1～500μm，且平均圆形度为0.8以上，使用前述光散射性二氧化硅颗粒时的、单位测定截面积中的二氧化硅量为20mg/cm2的水滤饼在紫外线波长310nm处的反射率A为30％以上。

公开(公告)号：CN119365418A

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202380046385.2

申请日：2023-06-09

Applicant: AGC株式会社 ,  AGC硅素技术株式会社

Inventor： 片山肇 ,  福本浩大 ,  近藤雅史 ,  加茂博道 ,  有光慎之介

IPC: C01B33/193

Abstract: 本发明提供：能高效地制造比表面积小的球状二氧化硅颗粒的、球状二氧化硅粉末的新型的制造方法。本发明的球状二氧化硅粉末的制造方法如下：对球状且多孔质的二氧化硅前体进行烧成或热处理时，使用在颗粒彼此接触的状态下烧成的、钠浓度为1～300质量ppm的二氧化硅前体，将钠浓度设为x(质量ppm)、热处理温度设为y(℃)时，在满足‑0.97x+1180