公开(公告)号：CN114630849B

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202080075974.X

申请日：2020-10-28

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 樋口信弥 ,  高泽政博 ,  赖莹薇 ,  江畑志郎 ,  巨势丈裕

IPC: C08F283/06 ,  C08L51/00 ,  C08F2/22 ,  C08F2/44 ,  C08F265/06 ,  C08L51/08

Abstract: 本发明提供作为副产物的氟类低聚物的生成少、所形成的涂膜的CFT大的聚四氟乙烯水性分散液的制造方法。该聚四氟乙烯水性分散液的制造方法包括：在水性介质中使非氟类单体聚合而获得包含含有基于所述非氟类单体的单元的聚合物的溶液1的工序A1，在溶液1中实质上不添加表面活性剂的情况下于溶液1中进行四氟乙烯的聚合而获得含有聚四氟乙烯粒子的水性乳化液的工序A2，以及在水性乳化液中添加非离子型表面活性剂后将水性乳化液浓缩而获得聚四氟乙烯水性分散液的工序A3；相对于供至聚合体系的四氟乙烯的供给量的非氟类单体的使用量在200质量ppm以下。

公开(公告)号：CN110662778A

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201880034036.8

申请日：2018-05-29

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 樋口信弥 ,  高泽政博 ,  巨势丈裕

IPC: C08F214/26 ,  H01B3/44 ,  H01B7/02 ,  H01B7/18

Abstract: 本发明提供即使在高RR比下的糊料挤出成形中也可以低挤出压力成形、且抑制了挤出压力的波动的改性PTFE及其制造方法。本发明的改性聚四氟乙烯是含有基于四氟乙烯的单元、和基于下式(1)所表示的单体的单元、和基于下式(2)所表示的单体的单元的改性聚四氟乙烯，相对于上述改性聚四氟乙烯的全部单元，基于上式(1)所表示的单体的单元的含量是0.020～0.040质量％，相对于上述改性聚四氟乙烯的全部单元，基于上式(2)所表示的单体的单元的含量是0.003～0.080质量％。其中，式(1)、(2)中，n是2～6，L是全氟亚烷基。Rf是全氟烷基。m是0～4的整数。CH2＝CH-CnF2n+1  (1)CF2＝CFO(LO)mRf  (2)。

公开(公告)号：CN114630849A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202080075974.X

申请日：2020-10-28

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 樋口信弥 ,  高泽政博 ,  赖莹薇 ,  江畑志郎 ,  巨势丈裕

IPC: C08F283/06 ,  C08L51/00 ,  C08F2/22 ,  C08F2/44 ,  C08F265/06 ,  C08L51/08

Abstract: 本发明提供作为副产物的氟类低聚物的生成少、所形成的涂膜的CFT大的聚四氟乙烯水性分散液的制造方法。该聚四氟乙烯水性分散液的制造方法包括：在水性介质中使非氟类单体聚合而获得包含含有基于所述非氟类单体的单元的聚合物的溶液1的工序A1，在溶液1中实质上不添加表面活性剂的情况下于溶液1中进行四氟乙烯的聚合而获得含有聚四氟乙烯粒子的水性乳化液的工序A2，以及在水性乳化液中添加非离子型表面活性剂后将水性乳化液浓缩而获得聚四氟乙烯水性分散液的工序A3；相对于供至聚合体系的四氟乙烯的供给量的非氟类单体的使用量在200质量ppm以下。

公开(公告)号：CN110662778B

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN201880034036.8

申请日：2018-05-29

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 樋口信弥 ,  高泽政博 ,  巨势丈裕

IPC: C08F214/26 ,  H01B3/44 ,  H01B7/02 ,  H01B7/18

Abstract: 本发明提供即使在高RR比下的糊料挤出成形中也可以低挤出压力成形、且抑制了挤出压力的波动的改性PTFE及其制造方法。本发明的改性聚四氟乙烯是含有基于四氟乙烯的单元、和基于下式(1)所表示的单体的单元、和基于下式(2)所表示的单体的单元的改性聚四氟乙烯，相对于上述改性聚四氟乙烯的全部单元，基于上式(1)所表示的单体的单元的含量是0.020～0.040质量％，相对于上述改性聚四氟乙烯的全部单元，基于上式(2)所表示的单体的单元的含量是0.003～0.080质量％。其中，式(1)、(2)中，n是2～6，L是全氟亚烷基。Rf是全氟烷基。m是0～4的整数。CH2＝CH‑CnF2n+1(1)CF2＝CFO(LO)mRf(2)。