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公开(公告)号：CN115903112B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202310070412.1
申请日：2021-12-24
Applicant: AGC株式会社 , 日本真空光学株式会社
Abstract: 本发明涉及滤光片。本发明提供800nm以上的近红外光的透射性和400nm～680nm的可见光的阻隔性优异的滤光片。一种滤光片，所述滤光片具有基材和介质多层膜，所述介质多层膜作为最外层层叠在所述基材的至少一个主面侧，其中，所述介质多层膜为将低折射率膜和高折射率膜交替地层叠而得到的层叠体，所述低折射率膜和所述高折射率膜中的至少一者满足下述光学特性(i‑1)和(i‑2A)，并且所述滤光片满足下述光学特性(ii‑1A)。(i‑1)波长600nm下的消光系数k600为0.12以上；(i‑2A)1530nm～1570nm的波长范围内的最小消光系数k1530‑1570MIN为0.01以下；(ii‑1A)阻隔波长400nm～680nm的光，并且透射波长1530nm～1570nm的光。
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公开(公告)号：CN115903112A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202310070412.1
申请日：2021-12-24
Applicant: AGC株式会社 , 日本真空光学株式会社
Abstract: 本发明涉及滤光片。本发明提供800nm以上的近红外光的透射性和400nm～680nm的可见光的阻隔性优异的滤光片。一种滤光片，所述滤光片具有基材和介质多层膜，所述介质多层膜作为最外层层叠在所述基材的至少一个主面侧，其中，所述介质多层膜为将低折射率膜和高折射率膜交替地层叠而得到的层叠体，所述低折射率膜和所述高折射率膜中的至少一者满足下述光学特性(i‑1)和(i‑2A)，并且所述滤光片满足下述光学特性(ii‑1A)。(i‑1)波长600nm下的消光系数k600为0.12以上；(i‑2A)1530nm～1570nm的波长范围内的最小消光系数k1530‑1570MIN为0.01以下；(ii‑1A)阻隔波长400nm～680nm的光，并且透射波长1530nm～1570nm的光。
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公开(公告)号：CN114690299A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111600517.0
申请日：2021-12-24
Applicant: AGC株式会社 , 日本真空光学株式会社
Abstract: 本发明涉及滤光片。本发明提供800nm以上的近红外光的透射性和400nm～680nm的可见光的阻隔性优异的滤光片。一种滤光片，所述滤光片具有基材和介质多层膜，所述介质多层膜作为最外层层叠在所述基材的至少一个主面侧，其中，所述介质多层膜为将低折射率膜和高折射率膜交替地层叠而得到的层叠体，所述低折射率膜和所述高折射率膜中的至少一者满足下述光学特性(i‑1)和(i‑2A)，并且所述滤光片满足下述光学特性(ii‑1A)。(i‑1)波长600nm下的消光系数k600为0.12以上；(i‑2A)1530nm～1570nm的波长范围内的最小消光系数k1530‑1570MIN为0.01以下；(ii‑1A)阻隔波长400nm～680nm的光，并且透射波长1530nm～1570nm的光。
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公开(公告)号：CN110364538B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN201910291541.7
申请日：2019-04-11
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明涉及布线膜和布线膜的形成方法。本发明提供一种设置在基板上的多层结构的布线膜，其特征在于，所述布线膜包含：初始层，所述初始层成膜于所述基板上，膜厚为3nm～200nm，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物；和第二层及第二层之后的层，所述第二层及第二层之后的层成膜于所述初始层上，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物，并且所述布线膜在所述初始层与所述第二层之间具有界面。提供一种通过真空气氛下的溅射而形成包含金属元素的多层结构的布线膜的方法，所述方法包含：在所述基板上成膜膜厚为3nm～200nm的初始层、然后进行抽真空的工序；和在所述初始层上成膜第二层及第二层之后的层的工序。
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公开(公告)号：CN110364538A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910291541.7
申请日：2019-04-11
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本发明涉及布线膜和布线膜的形成方法。本发明提供一种设置在基板上的多层结构的布线膜，其特征在于，所述布线膜包含：初始层，所述初始层成膜于所述基板上，膜厚为3nm～200nm，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物；和第二层及第二层之后的层，所述第二层及第二层之后的层成膜于所述初始层上，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物，并且所述布线膜在所述初始层与所述第二层之间具有界面。提供一种通过真空气氛下的溅射而形成包含金属元素的多层结构的布线膜的方法，所述方法包含：在所述基板上成膜膜厚为3nm～200nm的初始层、然后进行抽真空的工序；和在所述初始层上成膜第二层及第二层之后的层的工序。
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