公开(公告)号：CN113165346B

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN201980078516.9

申请日：2019-11-25

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 松浦启吾 ,  安乐英一郎 ,  高下隆太 ,  渡边弘毅 ,  宇野诚人 ,  村田浩一 ,  川上贵史

IPC: B32B27/00 ,  C09D201/04 ,  C09D201/10 ,  C09K3/18 ,  C07B61/00 ,  C07F7/18

Abstract: 提供能够形成耐光性优异的表面层的含氟醚化合物、组合物及物品。本发明的含氟醚化合物具有：聚(氧氟亚烷基)链、反应性甲硅烷基、和‑NR‑C(O)‑所示的基团(A)(式中，R为氢原子或烷基。)，基团(A)中的‑C(O)‑的碳原子与碳原子键合，聚(氧氟亚烷基)链位于基团(A)中的氮原子侧。

公开(公告)号：CN118234779A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202280074880.X

申请日：2022-11-10

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 室谷英介 ,  松浦启吾 ,  青山元志 ,  大野光 ,  宇野诚人 ,  川上贵史

IPC: C08G65/336 ,  C09D5/00 ,  C09D171/00 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明目的在于，提供耐摩擦性优异的组合物、表面处理剂、涂布液、具有耐摩擦性优异的表面层的物品、及其制造方法。一种组合物，其含有选自式(A1)所示的化合物、式(A2)所示的化合物、式(B1)所示的化合物、及式(B2)所示的化合物中的2种以上，且满足(I)～(III)。Rf1‑(ORf11)y1‑O‑R1‑L1‑(R11‑T1)x1···(A1)Rf2‑(ORf12)y2‑O‑R2‑L2‑(R12‑T2)x2···(A2)(T3‑R13)x3‑L3‑R3‑(ORf13)y3‑O‑R23‑L13‑(R33‑T13)x13···(B1)(T4‑R14)x4‑L4‑R4‑(ORf14)y4‑O‑R24‑L14‑(R34‑T14)x14···(B2)其中，式中的各符号如说明书所述。

公开(公告)号：CN113165346A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980078516.9

申请日：2019-11-25

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 松浦启吾 ,  安乐英一郎 ,  高下隆太 ,  渡边弘毅 ,  宇野诚人 ,  村田浩一 ,  川上贵史

IPC: B32B27/00 ,  C09D201/04 ,  C09D201/10 ,  C09K3/18 ,  C07B61/00 ,  C07F7/18

Abstract: 提供能够形成耐光性优异的表面层的含氟醚化合物、组合物及物品。本发明的含氟醚化合物具有：聚(氧氟亚烷基)链、反应性甲硅烷基、和‑NR‑C(O)‑所示的基团(A)(式中，R为氢原子或烷基。)，基团(A)中的‑C(O)‑的碳原子与碳原子键合，聚(氧氟亚烷基)链位于基团(A)中的氮原子侧。

公开(公告)号：CN117015568A

公开(公告)日：2023-11-07

申请号：CN202280019237.7

申请日：2022-03-01

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 国府田一麦 ,  川上贵史 ,  安乐英一郎 ,  松浦启吾 ,  宇野诚人

IPC: C08L71/02

Abstract: 课题在于，提供能够形成耐磨耗性优异的表面层的组合物、带表面层的基材及带表面层的基材的制造方法。本发明的组合物包含：具有聚(氧氟亚烷基)链及反应性甲硅烷基的含氟醚化合物、和具有多个反应性甲硅烷基且不具有聚(氧氟亚烷基)链的交联剂。

公开(公告)号：CN116940580A

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN202280019173.0

申请日：2022-03-02

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 宇野诚人 ,  安乐英一郎 ,  川上贵史 ,  松浦启吾

IPC: C07F5/02

Abstract: 提供新型化合物及其制造方法、以及以该新型化合物为原料的表面处理剂的制造方法。为下述式(A1)或式(A2)所示的化合物。G1‑(CH2)m1‑CHX1‑(CH2)n1‑M式(A1)M‑(CH2)n2‑CHX1‑(CH2)m2‑G2‑(CH2)m3‑CHX1‑(CH2)n3‑M式(A2)其中，式中的各符号如说明书所记载。

公开(公告)号：CN116940579A

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN202280019172.6

申请日：2022-03-02

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 宇野诚人 ,  安乐英一郎 ,  川上贵史 ,  松浦启吾

IPC: C07F5/02

Abstract: 提供新型化合物及其制造方法、以及以该新型化合物为原料的表面处理剂的制造方法。下述式(A1)或式(A2)所示的化合物。G1‑(CH2)n‑M式(A1)M‑(CH2)n‑G2‑(CH2)n‑M式(A2)其中，式中的各符号如说明书所述。