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公开(公告)号：CN112313499B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201980041785.8
申请日：2019-06-20
Applicant: 鲁姆斯有限公司
Inventor： 乔纳森·基尔柏格 , 尤瓦尔·鲁宾 , 迈克尔·阿德尔
IPC: G01N21/45 , G01M11/02
Abstract: 用于测量光导光学元件(LOE)的板之间的折射率不均匀性的系统和方法，其使用创新测量技术，该创新测量技术基于通常用于观察干涉及测试光束的准直的剪切干涉技术。当前实现方式的另一个特征是用于分析所生成的干涉图的特征以表征LOE中相邻板之间的差异的创新方法。
公开(公告)号：CN112313499A
公开(公告)日：2021-02-02
