公开(公告)号：CN101952685A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200980103132.4

申请日：2009-01-23

Applicant: 马波斯有限公司

Inventor： 伊万·巴沙尔

IPC: G01B13/02

CPC classification number: G01B13/02

Abstract: 本发明涉及一种用于对工件进行几何测量的装置，包括具有流动通道的壳体，在流动通道内布置用于以测量流体通流的基准喷嘴，该装置包括用于在基准喷嘴上游测量第一测量流体压力的压力测量装置和用于在基准喷嘴下游测量第二测量流体压力的第二压力测量装置，为了对该装置通过如下方式进行改进，即，使该装置能够特别精确地进行几何测量，而提出：该装置包括用于测量处于基准喷嘴上的测量流体压差的压差测量装置。

公开(公告)号：CN101952685B

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN200980103132.4

申请日：2009-01-23

Applicant: 马波斯有限公司

Inventor： 伊万·巴沙尔

IPC: G01B13/02

CPC classification number: G01B13/02

Abstract: 本发明涉及一种用于对工件进行几何测量的装置，包括具有流动通道的壳体，在流动通道内布置用于以测量流体通流的基准喷嘴，该装置包括用于在基准喷嘴上游测量第一测量流体压力的压力测量装置和用于在基准喷嘴下游测量第二测量流体压力的第二压力测量装置，为了对该装置通过如下方式进行改进，即，使该装置能够特别精确地进行几何测量，而提出：该装置包括用于测量处于基准喷嘴上的测量流体压差的压差测量装置。