一种原位生长羟基氧化铁改性隔膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115101892A

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202210845738.2

    申请日:2022-07-19

    Abstract: 本发明公开了一种原位生长羟基氧化铁改性隔膜的制备方法,包括以下步骤;将聚丙烯隔膜进行等离子体预处理;称取铁源加入到去离子水中,形成Fe3+溶液;加入氟化铵室温下持续搅拌,得到澄清透明的反应溶液;将反应溶液转移到反应釜内胆中,并放入上述处理好的隔膜,在666666℃下水热反应6666h;冷却反应釜到室温后,将所得产物清洗、烘干得到原位生长有羟基氧化铁的改性隔膜;本发明通制备的原位生长羟基氧化铁改性商业聚丙烯隔膜,具有高表面活性的FeOOH构筑了具有顺畅锂离子传输通道的多硫化物穿梭屏障,成功地抑制了多硫化物的溶解穿梭,同时提供了无阻的Li+传输通道,且具有良好的均匀性和结构稳定性,应用于锂硫电池具有优异的电化学性能。

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