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公开(公告)号：CN117148612A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202311113495.4
申请日：2023-08-30
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1343 , G02F1/1362 , G02F1/141
摘要： 本申请提供一种阵列基板及其显示面板，阵列基板用于液晶显示面板，包括第一衬底，具有阵列排布的多个子像素区；驱动电路层，设置于第一衬底一侧，包括多个子像素；每个子像素对应一个子像素区设置；支撑层，设置于驱动电路层远离第一衬底的一侧；支撑层包括多个环形挡墙，且多个环形挡墙与多个子像素区一一对应设置；环形挡墙设置于子像素区的边界处，且围绕子像素设置；环形挡墙被配置为能够阻止相邻两个子像素串色。该阵列基板通过在多个子像素区的边界处，且围绕所述子像素设置环形挡墙，以用于阻止相邻两个子像素串色，增加像素的显色区分度，从而极大的提升了显示面板的显示品质。
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公开(公告)号：CN114114838A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111414854.0
申请日：2021-11-25
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
摘要： 本申请属于光刻胶技术领域，具体涉及负性光刻胶及其制备方法、显示面板及其制作方法。其中，负性光刻胶的制备方法包括：获取初始碱可溶性树脂，所述初始碱可溶性树脂中含有热引发剂；去除热引发剂，以制得目标碱可溶性树脂；将所述目标碱可溶性树脂与光刻胶基础材料按照预设比例进行混合，以制得不含热引发剂的负性光刻胶。本申请通过提纯初始碱可溶性树脂，减少或去除热引发剂，可延缓或避免热引发剂产生的小分子积聚在掩膜板上，保证了曝光精度和工厂的产能。
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公开(公告)号：CN114864600A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210445426.2
申请日：2022-04-26
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
摘要： 本申请提供了一种靶材、靶材制作方法及显示面板。其中，靶材包括固溶体和强化相，所固溶体包括钼元素，钼元素的原子个数比大于或等于50％；所述强化相包括强化金属和碳元素，强化金属包括钛元素和锆元素，钛元素和碳元素形成钛碳强化相，锆元素和碳元素形成锆碳强化相。本申请的技术方案能够提高铜制信号传输层的牢固性，从而减少铜制的信号传输层的脱落。
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公开(公告)号：CN114657526A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210333514.3
申请日：2022-03-30
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
摘要： 本申请涉及半导体器件领域，公开了溅射金属靶材及其制备方法和应用。本申请所述溅射金属靶材制备工艺包括制备溅射金属靶材粉末、制备素坯、分段脱胶和高温烧结工序；其中，所述制备溅射金属靶材粉末通过静电纺丝工艺制备获得。本申请首次开发了使用静电纺丝法将金属的醋酸盐合成溅射金属靶材的制备工艺，所制备的合金靶材粉末达到纳米级，介于50‑200nm，本申请溅射金属靶材及其制备方法不仅增加了靶材粉末制备的新方式，而且更小粒径的靶材有利于混合的均一性，能够保证后续磁控溅射方式下金属薄膜的性能，优于常规的溶胶‑凝胶工艺。
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公开(公告)号：CN114657526B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202210333514.3
申请日：2022-03-30
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
摘要： 本申请涉及半导体器件领域，公开了溅射金属靶材及其制备方法和应用。本申请所述溅射金属靶材制备工艺包括制备溅射金属靶材粉末、制备素坯、分段脱胶和高温烧结工序；其中，所述制备溅射金属靶材粉末通过静电纺丝工艺制备获得。本申请首次开发了使用静电纺丝法将金属的醋酸盐合成溅射金属靶材的制备工艺，所制备的合金靶材粉末达到纳米级，介于50‑200nm，本申请溅射金属靶材及其制备方法不仅增加了靶材粉末制备的新方式，而且更小粒径的靶材有利于混合的均一性，能够保证后续磁控溅射方式下金属薄膜的性能，优于常规的溶胶‑凝胶工艺。
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公开(公告)号：CN114326200B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202111682505.7
申请日：2021-12-31
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 本申请公开了一种彩膜基板制备装置，彩膜基板制备装置包括喷雾生成机构和镀膜机构，待镀基板安装于镀膜机构上，喷雾生成机构包括溶液容置箱、第一导电板、多个喷雾装置以及高压发生器，镀膜机构包括固定件和第二导电板。溶液容置箱内的目标溶液在多个喷雾装置上形成目标液滴，高压发生器在第一导电板和第二导电板之间形成电场，并给目标液滴带上电荷，目标液滴在电场的作用下形成目标喷雾，目标喷雾在电场的作用下定向偏转并移动到待镀基板上形成目标层。本申请还公开了一种彩膜基板制备方法。因此，彩膜基板制备装置和方法具有流程简单、制作方便、成本低和生产效率高等优点。本申请还公开了一种由上述彩膜基板制备装置或方法形成的彩膜基板。
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公开(公告)号：CN117316112A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311117821.9
申请日：2023-08-31
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
IPC分类号： G09G3/3233
摘要： 本申请实施例公开一种显示面板和显示终端，包括多条扫描线、多条数据线以及呈阵列排布设置的像素单元。像素单元包括信号接收模块、驱动模块、补偿模块、发光控制模块和发光模块，像素单元进行一帧图像显示时包括连续的数据输入阶段和发光阶段，在数据输入阶段，信号接收模块自数据线接收数据信号并传输至驱动模块，驱动模块依据数据信号充电至第一预设电位，补偿模块在第一扫描线输出的扫描信号的控制下对驱动模块进行电位补偿，驱动模块位于第二预设电位。在发光阶段，驱动模块在第二扫描线输出的扫描信号控制下为发光模块提供驱动电流以驱动发光模块。通过对驱动模块进行补偿，消除了驱动开关管阈值电压漂移以及迁移率下降的影响。
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公开(公告)号：CN114196236B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202111508549.8
申请日：2021-12-10
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
IPC分类号： C09C1/56 , G02F1/1335
摘要： 本申请公开了一种高色素炭黑和高色素炭黑的制备方法和应用。本申请高色素炭黑是以炭黑粉体为原料，采用水包油乳液的方法制备获得。本申请高色素炭黑粒径小且均匀，具有高的黑度，着色力强，且分散性好，OD值高。本申请高色素炭黑的制备方法能够保证制备的高色素炭黑粒径等性能稳定，而且效率，避免了使用大量有机溶剂，有效降低了后续溶剂回收处理的成本和环境压力，环境友好。因此，增强了其应用性，扩展了其应用领域，特别是增强了其在薄膜晶体管液晶显示器的应用性，提高了薄膜晶体管液晶显示器的显示效果。
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公开(公告)号：CN117316112B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202311117821.9
申请日：2023-08-31
申请人： 长沙惠科光电有限公司 , 惠科股份有限公司
IPC分类号： G09G3/3233
摘要： 本申请实施例公开一种显示面板和显示终端，包括多条扫描线、多条数据线以及呈阵列排布设置的像素单元。像素单元包括信号接收模块、驱动模块、补偿模块、发光控制模块和发光模块，像素单元进行一帧图像显示时包括连续的数据输入阶段和发光阶段，在数据输入阶段，信号接收模块自数据线接收数据信号并传输至驱动模块，驱动模块依据数据信号充电至第一预设电位，补偿模块在第一扫描线输出的扫描信号的控制下对驱动模块进行电位补偿，驱动模块位于第二预设电位。在发光阶段，驱动模块在第二扫描线输出的扫描信号控制下为发光模块提供驱动电流以驱动发光模块。通过对驱动模块进行补偿，消除了驱动开关管阈值电压漂移以及迁移率下降的影响。
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