公开(公告)号：CN101602819A

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200910104313.0

申请日：2009-07-13

Applicant: 重庆大学

Inventor： 高放 ,  仲晓林 ,  王琪 ,  李红茹 ,  张胜涛

IPC: C08F2/50 ,  C07C251/24 ,  C07C249/02 ,  C08F120/14

Abstract: 光敏剂起着吸收光并发生光反应的重要作用。含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成及应用，其紫外可见吸收的峰值达到390nm以上，半峰宽约100nm，完全满足了可见光吸收的要求，并可用于可见光聚合，其化学结构通式如右：其中分子结构式(I)中化合物代表A:R1，R3:H，R2:OCH3，OCH2CH3，OCH2CH2CH3，O CH2CH2CH2CH3，N(CH3)2，N(CH2CH3)2，N(CH2CH2CH3)2，N(CH2CH2CH2CH3)2，N(Ph)2；B:(R1:H，OCH3，R2，R3:OCH3)。本发明通过化学修饰含有邻羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，使其紫外可见吸收的峰值移至390nm以上，可作为可见光光敏剂与紫外光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的可见光聚合或作为光固化材料。

公开(公告)号：CN101602820B

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN200910104314.5

申请日：2009-07-13

Applicant: 重庆大学

Inventor： 高放 ,  徐晓芳 ,  仲晓林 ,  李红茹 ,  张胜涛

IPC: C08F2/50 ,  C07C251/24 ,  C07C249/02 ,  C08F120/14

Abstract: 光敏剂起着吸收光并发生光反应的重要作用。含有对甲氧基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成及应用，其紫外可见吸收的峰值达到380nm以上，半峰宽约100nm，完全满足了可见光吸收的要求，并可用于可见光聚合，其化学结构通式如下：其中分子结构式(I)中化合物代表A：R1，R3：H，R2：OCH3，OCH2CH3，OCH2CH2CH3，O CH2CH2CH2CH3，N(CH3)2，N(CH2CH3)2，N(CH2CH2CH3)2，N(CH2CH2CH2CH3)2，N(Ph)2；B：(R1：H，OCH3，R2，R3：OCH3)。本发明通过化学修饰含有对甲氧基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，使其紫外可见吸收的峰值移至380nm以上，可作为可见光光敏剂与紫外光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的可见光聚合或作为光固化材料。

公开(公告)号：CN101602821A

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200910104315.X

申请日：2009-07-13

Applicant: 重庆大学

Inventor： 高放 ,  胡福兰 ,  仲晓林 ,  李红茹 ,  张胜涛

IPC: C08F2/50 ,  C07C251/24 ,  C07C249/02 ,  C08F120/14

Abstract: 光敏剂起着吸收光并发生光反应的重要作用。含有对羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成及应用，其紫外可见吸收的峰值达到380nm以上，半峰宽约100nm，完全满足了可见光吸收的要求，并可用于可见光聚合，其化学结构通式如右：其中分子结构式(I)中化合物代表A:R1，R3:H，R2:OCH3，OCH2CH3，OCH2CH2CH3，OCH2CH2CH2CH3，N(CH3)2，N(CH2CH3)2，N(CH2CH2CH3)2，N(CH2CH2CH2CH3)2，N(Ph)2；B:(R1:H，OCH3，R2，R3:OCH3)。本发明通过化学修饰含有对羟基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，使其紫外可见吸收的峰值移至380nm以上，可作为可见光光敏剂与紫外光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的可见光聚合或作为光固化材料。

公开(公告)号：CN101602820A

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200910104314.5

申请日：2009-07-13

Applicant: 重庆大学

Inventor： 高放 ,  徐晓芳 ,  仲晓林 ,  李红茹 ,  张胜涛

IPC: C08F2/50 ,  C07C251/24 ,  C07C249/02 ,  C08F120/14

Abstract: 光敏剂起着吸收光并发生光反应的重要作用。含有对甲氧基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂的合成及应用，其紫外可见吸收的峰值达到380nm以上，半峰宽约100nm，完全满足了可见光吸收的要求，并可用于可见光聚合，其化学结构通式如右：其中分子结构式(I)中化合物代表A:R1，R3:H，R2:OCH3，OCH2CH3，OCH2CH2CH3，O CH2CH2CH2CH3，N(CH3)2，N(CH2CH3)2，N(CH2CH2CH3)2，N(CH2CH2CH2CH3)2，N(Ph)2；B:(R1:H，OCH3，R2，R3:OCH3)。本发明通过化学修饰含有对甲氧基的具有共轭结构希夫碱型的可见光光敏剂，使其紫外可见吸收的峰值移至380nm以上，可作为可见光光敏剂与紫外光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的可见光聚合或作为光固化材料。