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发明公开
一种AZIF纳米填料、制备方法、同质界面介导的混合基质膜及其制备方法和应用审中-实审

公开(公告)号：CN119701675A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202411987946.1

申请日：2024-12-31

Applicant: 郑州大学

Inventor： 董冠英 , 牛鑫蒲 , 张亚涛 , 王景 , 单美霞 , 朱军勇 , 刘宗凯

IPC: B01D69/14 , B01D67/00 , B01D53/22

Abstract: 本发明属于气体分离膜技术领域，特别涉及一种AZIF纳米填料、制备方法、同质界面介导的混合基质膜及其制备方法和应用。所述同质界面介导的混合基质膜的制备方法，以长分子链AOPIM‑1聚合物为膜基质，与AZIF纳米填料共混制备金属有机框架/自具微孔聚合物混合基质膜。本发明制备的同质界面介导的混合基质膜，显著改善了填料与膜基质之间的界面相容性，同时保持了有机框架材料固有的孔道筛分特性，提供了丰富的选择性纳米扩散通道，实现了高效分离丙烯/丙烷。

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