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公开(公告)号:CN1250452C
公开(公告)日:2006-04-12
申请号:CN01811516.0
申请日:2001-02-20
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 提供制备烷基卤硅烷的方法,该方法包括将硅和某种形式的铜在高于约500℃的温度下热处理,产生接触物质,在所述接触物质存在下,使烷基卤和硅反应,生成烷基卤硅烷。
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公开(公告)号:CN1437562A
公开(公告)日:2003-08-20
申请号:CN01811516.0
申请日:2001-02-20
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 提供制备烷基卤硅烷的方法,该方法包括将硅和某种形式的铜在高于约500℃的温度下热处理,产生接触物质,在所述接触物质存在下,使烷基卤和硅反应,生成烷基卤硅烷。
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