公开(公告)号：CN101316650A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200680044584.6

申请日：2006-09-11

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 詹姆斯·A·拉德 ,  詹尼弗·L·莫莱森 ,  路易斯·A·希克 ,  顾佑宗 ,  刘科 ,  帕拉格·P·库尔卡尼 ,  乔治·R·里泽克

IPC: B01J8/02 ,  C01B3/16 ,  C01B3/50 ,  B01D53/22 ,  F02C3/28 ,  B01J19/24 ,  B01D71/02 ,  B01D67/00

CPC classification number: Y02E20/16 ,  Y02E20/18

Abstract: 本发明披露一种制氢设备，该设备包括：通过热交换器冷却的水气变换催化剂、对二氧化碳和硫化氢具有选择性的隔膜。

公开(公告)号：CN101316650B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200680044584.6

申请日：2006-09-11

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 詹姆斯·A·拉德 ,  詹尼弗·L·莫莱森 ,  路易斯·A·希克 ,  顾佑宗 ,  刘科 ,  帕拉格·P·库尔卡尼 ,  乔治·R·里泽克

IPC: B01J8/02 ,  C01B3/16 ,  C01B3/50 ,  B01D53/22 ,  F02C3/28 ,  B01J19/24 ,  B01D71/02 ,  B01D67/00

CPC classification number: Y02E20/16 ,  Y02E20/18

Abstract: 本发明披露一种制氢设备，该设备包括：通过热交换器冷却的水气变换催化剂、对二氧化碳和硫化氢具有选择性的隔膜。

公开(公告)号：CN101316648B

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN200680044556.4

申请日：2006-09-11

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 顾佑宗 ,  詹姆斯·A·拉德 ,  詹尼弗·L·莫莱森 ,  路易斯·A·希克 ,  维德亚·拉马斯瓦米

IPC: B01D71/02 ,  B01D67/00

CPC classification number: Y02E20/16 ,  Y02E20/18

Abstract: 一种多孔膜，其用于在高于约200℃的温度以高于克努森扩散选择性的选择性从液流中分离二氧化碳。该多孔膜包括：多孔支撑层，其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆；多孔分离层，其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆；及功能层，其包括可与液流接触以优先传输二氧化碳的陶瓷氧化物。具体地，所述功能层可为MgO、CaO、SrO、BaO、La2O3、CeO2、ATiO3、AZrO3、AAl2O4、A1FeO3、A1MnO3、A1CoO3、A1NiO3、A2HfO3、A3CeO3、Li2ZrO3、Li2SiO3、Li2TiO3或它们的混合物；其中A为Mg、Ca、Sr或Ba，A1为La、Ca、Sr或Ba，A2为Ca、Sr或Ba，及A3为Sr或Ba。

公开(公告)号：CN101316648A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200680044556.4

申请日：2006-09-11

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 顾佑宗 ,  詹姆斯·A·拉德 ,  詹尼弗·L·莫莱森 ,  路易斯·A·希克 ,  维德亚·拉马斯瓦米

IPC: B01D71/02 ,  B01D67/00

CPC classification number: Y02E20/16 ,  Y02E20/18

Abstract: 一种多孔膜，其用于在高于约200℃的温度以高于克努森扩散选择性的选择性从液流中分离二氧化碳。该多孔膜包括：多孔支撑层，其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆；多孔分离层，其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆；及功能层，其包括可与液流接触以优先传输二氧化碳的陶瓷氧化物。具体地，所述功能层可为MgO、CaO、SrO、BaO、La2O3、CeO2、ATiO3、AZrO3、AAl2O4、A1FeO3、A1MnO3、A1CoO3、A1NiO3、A2HfO3、A3CeO3、Li2ZrO3、Li2SiO3、Li2TiO3或它们的混合物；其中A为Mg、Ca、Sr或Ba，A1为La、Ca、Sr或Ba，A2为Ca、Sr或Ba，及A3为Sr或Ba。