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公开(公告)号：CN101213238A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200680024054.5
申请日：2006-06-21
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 詹姆斯·A·塞拉 , 约瑟夫·J·夏安 , 克里斯琴·M·A·赫勒 , 凯尔·E·利茨 , 刘杰 , 拉里·N·刘易斯 , 高塔姆·帕塞萨拉蒂 , 阿尼尔·R·达盖尔 , 戴维·A·西蒙
CPC classification number: H01L51/0039 , C07C29/40 , C07C37/18 , C07C37/20 , C07C39/17 , C07C39/42 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/94 , C08G61/02 , C09K11/06 , C09K2211/1011 , C09K2211/1416 , H01L51/0058 , H01L51/5036 , H01L51/5048 , H05B33/14 , Y02E10/549 , C07C35/52
Abstract: 本发明公开了一种得自双酚的聚合物组合物，该双酚包含任选含有氮的共轭芳族基团。本发明也公开了制备所述聚合物的方法和合适的双酚。本发明还公开了包含所述聚合物的电活性层和包含该层的电活性装置。
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公开(公告)号：CN1568300A
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN02820320.8
申请日：2002-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN101283462A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200680037298.7
申请日：2006-07-20
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 刘杰 , 拉里·N·刘易斯 , 阿尼尔·R·杜加尔 , 鲁宾兹坦·斯拉沃米尔
IPC: H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0021 , C23C18/08 , C23C18/14 , H01L51/5052 , H01L51/5221
Abstract: 披露一种含有本征活化剂材料的有机发光器件。还披露一种包括本征活化剂材料活化产物的有机发光器件。还预期图案化有机发光器件的实施方式，其中可在器件制造之前或之后进行图案化。还披露含有本征活化剂材料或活化剂材料活化产物的有机发光器件的制造方法。
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公开(公告)号：CN1568301A
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN02820321.6
申请日：2002-07-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 艾伯托·尼索利 , 约翰·Y·奥弗里 , 安杰尔·桑切斯冈萨雷斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101283462B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200680037298.7
申请日：2006-07-20
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 刘杰 , 拉里·N·刘易斯 , 阿尼尔·R·杜加尔 , 鲁宾兹坦·斯拉沃米尔
IPC: H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0021 , C23C18/08 , C23C18/14 , H01L51/5052 , H01L51/5221
Abstract: 披露一种含有本征活化剂材料的有机发光器件。还披露一种包括本征活化剂材料活化产物的有机发光器件。还预期图案化有机发光器件的实施方式，其中可在器件制造之前或之后进行图案化。还披露含有本征活化剂材料或活化剂材料活化产物的有机发光器件的制造方法。
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公开(公告)号：CN101405893A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200780009393.0
申请日：2007-01-10
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: C09K9/02 , C09K2211/1007 , C09K2211/1014 , C09K2211/1044 , H01G9/2059 , H01L51/4206 , H01L51/5032 , H01L51/5221 , Y02E10/542
Abstract: 本发明描述了一种有机光电器件，其包括含有至少一种零价金属的阴极、阳极、光电活性有机材料；其中所述阴极与至少一种有机铵盐接触。在一些实施方式中，该有机铵盐具有结构(I)，如上，其中R1－R4各自独立地为C1－C20脂族基团、C3－C20脂环族基团或C3－C20芳族基团，且其中X－选自一价无机阴离子、一价有机阴离子、多价无机阴离子、多价有机阴离子及其混合物。
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公开(公告)号：CN100439318C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN02820321.6
申请日：2002-07-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 艾伯托·尼索利 , 约翰·Y·奥弗里 , 安杰尔·桑切斯冈萨雷斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1277803C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN02820320.8
申请日：2002-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1289808A
公开(公告)日：2001-04-04
申请号：CN00108309.0
申请日：2000-05-11
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 拉里·N·刘易斯 , 迈克尔·J·奥布赖恩
IPC: C09D183/04
CPC classification number: C08J3/24 , C08J2383/04 , C09D183/04 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667 , Y10T428/31678 , C08L83/00
Abstract: 本发明公开了一种制备涂敷基质的方法,该方法包括在含有催化有效量的贵金属催化剂的基质上,涂敷涂料组合物层并使涂层固化,所述涂料组合物含有链烯基官能化的有机聚硅氧烷和氢化物官能化的有机聚硅氧烷,该方法允许使用具有非常长时间使用寿命的非催化的涂料裕,同时提供具有非常高反应性的涂层,该涂层可在低温下迅速固化。
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