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公开(公告)号：CN111326381A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201911272188.4
申请日：2019-12-12
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 乔治·希欧多尔·达拉科斯 , 斯科特·安德鲁·韦弗 , 约翰·斯科特·普赖斯 , 史蒂芬·洛伦科·阿劳约 , 沙西亚那拉亚南·拉加万
Abstract: 一种X射线源靶包括构造为在受到电子束撞击时产生X射线的结构。该结构具有包括X射线产生材料的X射线产生层和与X射线产生层相邻并热连通的导热层。应力消除层与导热层相邻。导热层被夹在X射线产生层和应力消除层之间。
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