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公开(公告)号：CN101379632A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200780004322.1
申请日：2007-01-11
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 哈克·F·普恩 , 思维特拉纳·罗戈杰维克 , 丹尼斯·科伊尔
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/0014 , H01L27/3204 , H01L51/0017 , H01L51/56 , H01L2251/5361
Abstract: 提供了一种制造有机电子器件的方法。更具体地，披露了制造具有活性聚合物层的有机电致发光器件的方法。活性聚合物层通过卷绕涂布法例如Micro GravureTM涂布来设置。活性聚合物层使用溶剂辅助擦拭工艺来图案化。
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公开(公告)号：CN101379632B
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200780004322.1
申请日：2007-01-11
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 哈克·F·普恩 , 思维特拉纳·罗戈杰维克 , 丹尼斯·科伊尔
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/0014 , H01L27/3204 , H01L51/0017 , H01L51/56 , H01L2251/5361
Abstract: 提供了一种制造有机电子器件的方法。更具体地，披露了制造具有活性聚合物层的有机电致发光器件的方法。活性聚合物层通过卷绕涂布法例如Micro GravureTM涂布来设置。活性聚合物层使用溶剂辅助擦拭工艺来图案化。
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公开(公告)号：CN100374882C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200380105118.0
申请日：2003-11-20
Applicant: 通用电气公司
IPC: G02B5/20 , G02B5/28 , G02B1/11 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/287 , G02B5/045 , G02B5/20 , G02B5/3041 , G02B6/0031 , G02B6/0038 , G02B6/0046 , G02B6/005 , G02B6/0053 , G02B6/0055 , G02B6/0071 , G02F1/13362 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供了一种光学结构。该光学结构包括一光源(14)。该光学结构还包括折射率小于1.7、设置在光源上的一有机光管理膜(16)，和折射率大于1.7、邻接有机光管理膜(16)设置的一透明无机膜(18)。本发明还提供了包括一有机光管理膜(16)和一透明无机膜(18)的光学设备。本发明还提供了形成所述光学结构的方法。该方法包括在真空下沉积透明无机膜(18)。
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公开(公告)号：CN1720468A
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：CN200380105118.0
申请日：2003-11-20
Applicant: 通用电气公司
IPC: G02B5/20 , G02B5/28 , G02B1/11 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/287 , G02B5/045 , G02B5/20 , G02B5/3041 , G02B6/0031 , G02B6/0038 , G02B6/0046 , G02B6/005 , G02B6/0053 , G02B6/0055 , G02B6/0071 , G02F1/13362 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供了一种光学结构。该光学结构包括一光源(14)。该光学结构还包括折射率小于1.7、设置在光源上的一有机光管理膜(16)，和折射率大于1.7、邻接有机光管理膜(16)设置的一透明无机膜(18)。本发明还提供了包括一有机光管理膜(16)和一透明无机膜(18)的光学设备。本发明还提供了形成所述光学结构的方法。该方法包括在真空下沉积透明无机膜(18)。
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