公开(公告)号：CN102214750A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201110153259.6

申请日：2011-06-07

申请人： 财团法人交大思源基金会

发明人： 李佳佑 ,  王朝勋 ,  邱镜学 ,  郭浩中

IPC分类号： H01L33/06 ,  H01L33/24 ,  H01L33/00

CPC分类号： H01L33/22 ,  H01L33/007 ,  H01L33/0079 ,  H01L33/0095 ,  H01L33/06 ,  H01L33/32

摘要： 本发明提供一种纳米级侧向成长磊晶的薄膜发光二极体及其制作方法。本发明的纳米级侧向成长磊晶的薄膜发光二极体包含有一基板；一位于基板上的接合金属层；一位于接合金属层上的第一电极；一位于第一电极上的半导体结构，其为侧向磊晶所形成；以及一位于半导体结构上的第二电极，上述的半导体结构未被第二电极所附盖的上表面形成有一纳米级粗糙化结构。本发明由侧向磊晶成长方式有效抑制半导体结构内的叠层缺陷与降低差排密度，提升发光层结晶品质，降低漏电流，同时半导体结构表面形成有粗化结构，以提升外部量子效率。

公开(公告)号：CN102214750B

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201110153259.6

申请日：2011-06-07

申请人： 财团法人交大思源基金会

发明人： 李佳佑 ,  王朝勋 ,  邱镜学 ,  郭浩中

IPC分类号： H01L33/06 ,  H01L33/24 ,  H01L33/00

CPC分类号： H01L33/22 ,  H01L33/007 ,  H01L33/0079 ,  H01L33/0095 ,  H01L33/06 ,  H01L33/32

摘要： 本发明提供一种纳米级侧向成长磊晶的薄膜发光二极体及其制作方法。本发明的纳米级侧向成长磊晶的薄膜发光二极体包含有一基板；一位于基板上的接合金属层；一位于接合金属层上的第一电极；一位于第一电极上的半导体结构，其为侧向磊晶所形成；以及一位于半导体结构上的第二电极，上述的半导体结构未被第二电极所附盖的上表面形成有一纳米级粗糙化结构。本发明由侧向磊晶成长方式有效抑制半导体结构内的叠层缺陷与降低差排密度，提升发光层结晶品质，降低漏电流，同时半导体结构表面形成有粗化结构，以提升外部量子效率。