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公开(公告)号：CN1255625A
公开(公告)日：2000-06-07
申请号：CN99125883.5
申请日：1999-12-02
Applicant: 西门子公司
Inventor： A·米凯利斯 , O·根兹 , U·曼茨
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01J4/00 , G01B11/02
Abstract: 按照本发明测量具有外形双折射的表面图形的设备包括一个光源为带有表面图形的表面提供入射光;一个光探测器用来测量入射光被表面图形反射后的特性;一个转台使样品表面转动,使得入射光因转台转动而以不同的角度入射;还包括一个处理器来处理测得的反射光特性,并使之与测得的表面图形相关联。本发明还包括测量具有外形双折射的表面图形的方法。
公开(公告)号：CN101398293B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810084542.6
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明涉及一种用椭偏法测量临界尺寸的设备，按照本发明测量具有外形双折射的表面图形的设备包括一个光源为带有表面图形的表面提供入射光；一个光探测器用来测量入射光被表面图形反射后的特性；一个转台使样品表面转动，使得入射光因转台转动而以不同的角度入射；还包括一个处理器来处理测得的反射光特性，并使之与测得的表面图形相关联。本发明还包括测量具有外形双折射的表面图形的方法。
公开(公告)号：CN101398293A
公开(公告)日：2009-04-01
