阴离子型单偶氮染料
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100372894C

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN03817438.3

    申请日:2003-07-17

    IPC分类号: C09B43/16 C09B29/01 D21H21/28

    CPC分类号: C09B43/16 Y10S8/919

    摘要: 式(1)的阴离子型单偶氮染料,其中,A表示1-或2-萘基残基,其被总共一个或两个磺酸和/或羧酸基团取代,R1表示氢或C1-C4烷基,每个D1和D2,彼此独立地,表示从氨基酸的氨基上除去一个氢原子后得到的氨基酸残基,或者表示残基-NR2R3,其中每个R2和R3,彼此独立地,表示氢、C1-C4烷基、被羟基、卤素或氰基取代的C2-C6烷基、未取代的或被羟基、卤素、SO3H、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基单取代的苯基,或者,R2和R3与它们相连的氮原子一起形成一个饱和的5-或6-元环,其中该环除氮原子外可以含有一个氮原子或氧原子并且该环可以进一步被取代,以及n是0或1,一种制备它们的方法,以及这种染料在染天然或合成材料特别是纸张上的用途。

    阴离子型单偶氮染料
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1671799A

    公开(公告)日:2005-09-21

    申请号:CN03817438.3

    申请日:2003-07-17

    IPC分类号: C09B43/16 C09B29/01 D21H21/28

    CPC分类号: C09B43/16 Y10S8/919

    摘要: 式(1)的阴离子型单偶氮染料,其中,A表示1-或2-萘基残基,其被总共一个或两个磺酸和/或羧酸基团取代,R1表示氢或C1-C4烷基,每个D1和D2,彼此独立地,表示从氨基酸的氨基上除去一个氢原子后得到的氨基酸残基,或者表示残基-NR2R3,其中每个R2和R3,彼此独立地,表示氢、C1-C4烷基、被羟基、卤素或氰基取代的C2-C6烷基、未取代的或被羟基、卤素、SO3H、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基单取代的苯基,或者,R2和R3与它们相连的氮原子一起形成一个饱和的5-或6-元环,其中该环除氮原子外可以含有一个氮原子或氧原子并且该环可以进一步被取代,以及n是0或1,一种制备它们的方法,以及这种染料在染天然或合成材料特别是纸张上的用途。