偶氮苯单体、具有光响应性能的高强度低摩擦系数形状记忆聚合物材料及制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116478063B

    公开(公告)日:2024-07-30

    申请号:CN202310416795.3

    申请日:2023-04-19

    摘要: 本发明提供了一种偶氮苯单体、具有光响应性能的高强度低摩擦系数形状记忆聚合物材料及其制备方法和应用,属于高分子聚合物材料技术领域。本发明提供了含有两个乙烯基的偶氮苯单体,利用偶氮苯在光刺激下的构象转变实现该材料的在形状记忆过程中的临时形状变形与固定和形状回复,实现了光控制的形状记忆性能,且含有两个乙烯基的偶氮苯单体还降低了基体液晶弹性体的摩擦系数,使得到的具有光响应性能的高强度低摩擦系数形状记忆聚合物材料表现出光调控摩擦系数的特性。偶氮苯基团引入后,材料的摩擦系数由原来的0.13降低到0.08。对实施例8所述材料施加紫外光照或者可见光照,其摩擦系数能够实现可控调节,摩擦系数的光调控变化显著。

    一种改性聚酰亚胺材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118048039A

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202410293091.6

    申请日:2024-03-14

    摘要: 本发明属于耐磨材料技术领域,具体涉及一种改性聚酰亚胺材料及其制备方法和应用。本发明提供的改性聚酰亚胺材料,包括聚酰亚胺和金属‑有机框架材料,所述聚酰亚胺和金属‑有机框架材料通过酰胺键和氢键结合;所述金属‑有机框架材料为NEHZIK。在本发明中,金属‑有机框架材料作为填料具有铆钉效应提高了改性聚酰亚胺的机械性能;同时金属‑有机框架材料中的过渡金属元素Zn在摩擦过程中对金属对偶表面均匀、坚固转移膜的形成具有促进作用,从而提高了改性聚酰亚胺的耐磨性能。