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公开(公告)号：CN105659830B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201010051421.9
申请日：2010-11-15
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明公开了一种常温面源黑体有效发射率的均匀性校准方法，属于红外光学计量测试领域。该方法通过镓熔融点黑体的熔融温度、铟凝固点黑体的凝固温度来校准变温标准黑体，从而获得变温标准黑体在常温范围内的有效发射率-温度关系曲线，据此再用变温标准黑体校准并测量常温面源黑体的有效发射率，进而通过移动精密二维平台来校准面源黑体在常温下各点的有效发射率及其均匀性。本方法在完成对变温标准黑体有效发射率量值溯源的基础上，实现了对大面积常温面源黑体各点有效发射率的标定，能准确地解释待标常温面源黑体的温度与有效发射率之间的相关性。本发明具有校准省时、校准数据准确而可靠的特点。
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