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公开(公告)号:CN115629461A
公开(公告)日:2023-01-20
申请号:CN202211327021.5
申请日:2022-10-26
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: G02B7/18
Abstract: 本发明光学制造工艺技术领域,公开了一种提高胶合立方能量分光棱镜抗激光损伤阈值的胶合方法。该方法以Ti2O3为高折射率薄膜材料、以SiO2低折射率薄膜材料设计能量分光膜膜系,并沉积在直角棱镜斜面,采用光胶方式制备胶合立方能量分光棱镜,在两个直角棱镜贴合的沟槽处使用环氧树脂胶/光敏胶密封,可以消除由于胶层耐热性较差导致的胶合立方能量分光棱镜抗激光损伤阈值较低的现象,提高胶合立方能量分光棱镜的抗激光损伤阈值。以本发明所述方法制备的胶合立方能量分光棱镜,抗激光损伤阈值超过140MW/cm2。本发明所述方法对折射率为1.46~1.56的玻璃材料胶合能量分光器件具有普适性。
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公开(公告)号:CN115469452A
公开(公告)日:2022-12-13
申请号:CN202211319269.7
申请日:2022-10-26
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域,公开了一种基底为H‑K9L或其它在400nm~1100nm具有高透射率的无色玻璃上,400nm~1100nm范围内中心波长λ0=515nm,通带宽度Δλ=λ0±25nm=50nm、截止带λ≠λ0±40nm的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法。该方法针对电子束热蒸发镀膜设备,以Ti2O3做为高折射率薄膜材料,以SiO2做为低折射率薄膜材料,使用石英晶控法监控膜层厚度,设计、制备的此类膜系具有膜层总厚度较薄,薄膜应力较小,环境适应性强,对薄膜沉积设备要求低,制备方法简单,制作成本低的特点。本发明所述方法对400nm~1100nm波段范围内其它中心波长的50nm宽带通滤光膜具有普适性。
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公开(公告)号:CN115469452B
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202211319269.7
申请日:2022-10-26
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域,公开了一种基底为H‑K9L或其它在400nm~1100nm具有高透射率的无色玻璃上,400nm~1100nm范围内中心波长λ0=515nm,通带宽度Δλ=λ0±25nm=50nm、截止带λ≠λ0±40nm的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法。该方法针对电子束热蒸发镀膜设备,以Ti2O3做为高折射率薄膜材料,以SiO2做为低折射率薄膜材料,使用石英晶控法监控膜层厚度,设计、制备的此类膜系具有膜层总厚度较薄,薄膜应力较小,环境适应性强,对薄膜沉积设备要求低,制备方法简单,制作成本低的特点。本发明所述方法对400nm~1100nm波段范围内其它中心波长的50nm宽带通滤光膜具有普适性。
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