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公开(公告)号：CN113582162B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202110997955.9
申请日：2021-08-27
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: C01B32/15
Abstract: 本发明光学吸收领域，公开了一种高光学吸收碳纳米材料，其包括：碳黑和通过化学气相沉积法在碳黑表面生长的具有陷光能力的碳纳米墙，利用墙体之间间隙结构实现对光的吸收。本发明采用射频等离子增强化学气相沉积工艺，利用惰性气体增加等离子能量密度的方式，在还原性气体氢气的作用下将碳源气体的化学键打开，经过成核、迁移、取向和生长等过程在碳黑表面构建垂直排列的碳纳米墙，等效折射率接近1，具有很好的界面阻抗匹配，入射光几乎无反射地穿过材料表面进入墙体的间隙空间中，经过多次墙体间反射最终被吸收转换成热能，在这些物理机制共同作用下，实现在紫外‑可见光波段的高效光学吸收。
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公开(公告)号：CN113583495A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110997957.8
申请日：2021-08-27
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: C09D5/24 , C09D183/08 , C09D183/06
Abstract: 本发明属于光学吸收涂层技术领域，公开了一种低出气率抗静电光学吸收涂层制备方法，过程依次为：制备底涂分散液、制备底涂、制备面涂悬浮液、制备面涂、涂层热处理。本发明采用以碳材料为主的非聚合物反应体系，具有无分解物、无游离小分子产生等特点，消除来自涂层材料组分的出气污染；采用高疏水性的硅氧烷封闭碳材料中亲水性官能团，大幅减少涂层对水气等环境气体的吸附量；同时，该涂层具有较好的抗静电性能，能满足特定空间环境的应用需求。
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公开(公告)号：CN113582162A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110997955.9
申请日：2021-08-27
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: C01B32/15
Abstract: 本发明光学吸收领域，公开了一种高光学吸收碳纳米材料，其包括：碳黑和通过化学气相沉积法在碳黑表面生长的具有陷光能力的碳纳米墙，利用墙体之间间隙结构实现对光的吸收。本发明采用射频等离子增强化学气相沉积工艺，利用惰性气体增加等离子能量密度的方式，在还原性气体氢气的作用下将碳源气体的化学键打开，经过成核、迁移、取向和生长等过程在碳黑表面构建垂直排列的碳纳米墙，等效折射率接近1，具有很好的界面阻抗匹配，入射光几乎无反射地穿过材料表面进入墙体的间隙空间中，经过多次墙体间反射最终被吸收转换成热能，在这些物理机制共同作用下，实现在紫外‑可见光波段的高效光学吸收。
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公开(公告)号：CN113583495B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202110997957.8
申请日：2021-08-27
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: C09D5/24 , C09D183/08 , C09D183/06
Abstract: 本发明属于光学吸收涂层技术领域，公开了一种低出气率抗静电光学吸收涂层的制备方法，过程依次为：制备底涂分散液、制备底涂、制备面涂悬浮液、制备面涂、涂层热处理。本发明采用以碳材料为主的非聚合物反应体系，具有无分解物、无游离小分子产生等特点，消除来自涂层材料组分的出气污染；采用高疏水性的硅氧烷封闭碳材料中亲水性官能团，大幅减少涂层对水气等环境气体的吸附量；同时，该涂层具有较好的抗静电性能，能满足特定空间环境的应用需求。
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