一种紫外光自愈合聚脲材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113307945B

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202110609155.5

    申请日:2021-06-01

    Abstract: 本发明公开了一种紫外光自愈合聚脲材料,由金属离子与配体聚脲通过配位键复合而成;所述二异氰酸酯为六亚甲基二异氰酸酯、异氟尔酮二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、间苯二甲基二异氰酸酯、甲苯‑2,6‑二异氰酸酯中的一种;所述聚脲由原料单体偶氮二吡啶二胺、二异氰酸酯及六亚甲基二异氰酸酯三聚体聚合而成;偶氮二吡啶二胺、二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯三聚体的用量摩尔比为1:(0.85‑1):(0‑0.1)。所述聚脲中的偶氮二吡啶单元与金属离子的摩尔用量比例为1:(0.1‑1)。本发明提供的自愈合聚脲材料在受到损伤后,先用波长340‑380nm紫外光照射聚脲材料1‑180min,然后用波长420‑460nm光照射0‑30min,即实现自愈合,愈合效率接近100%。

    一种紫外光自愈合聚脲材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113307945A

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN202110609155.5

    申请日:2021-06-01

    Abstract: 本发明公开了一种紫外光自愈合聚脲材料,由金属离子与配体聚脲通过配位键复合而成;所述二异氰酸酯为六亚甲基二异氰酸酯、异氟尔酮二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、间苯二甲基二异氰酸酯、甲苯‑2,6‑二异氰酸酯中的一种;所述聚脲由原料单体偶氮二吡啶二胺、二异氰酸酯及六亚甲基二异氰酸酯三聚体聚合而成;偶氮二吡啶二胺、二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯三聚体的用量摩尔比为1:(0.85‑1):(0‑0.1)。所述聚脲中的偶氮二吡啶单元与金属离子的摩尔用量比例为1:(0.1‑1)。本发明提供的自愈合聚脲材料在受到损伤后,先用波长340‑380nm紫外光照射聚脲材料1‑180min,然后用波长420‑460nm光照射0‑30min,即实现自愈合,愈合效率接近100%。

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