公开(公告)号：CN102498236A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080040823.7

申请日：2010-07-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： A·J·P·M·维梅尔 ,  G·P·简森

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  F16C29/025 ,  F16C32/0622

Abstract: 一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：注入头，所述注入头包括配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从前驱供给口经由沉积空间到前驱排放口的前驱气流；沉积空间在使用时由注入头和衬底表面界定；包括轴承空气注入器的空气轴承，该轴承空气注入器安排成在注入头与衬底表面之间注入轴承空气，因此该轴承空气形成空气轴承；以及传送系统，该传送系统提供衬底和注入头沿着衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送衬底的传送平面。将支承部分安排成与注入头相对，该支承部分被构造成提供在传送平面中平衡注入头空气轴承的空气轴承压强布局，以便衬底被所述空气轴承压强布局无支承地保持在注入头与支承部分之间。

公开(公告)号：CN104911564B

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201510239478.4

申请日：2010-07-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： A·J·P·M·维梅尔 ,  G·P·简森

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  F16C29/025 ,  F16C32/0622

Abstract: 一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：注入头，所述注入头包括配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从前驱供给口经由沉积空间到前驱排放口的前驱气流；沉积空间在使用时由注入头和衬底表面界定；包括轴承气体注入器的气体轴承，该轴承气体注入器安排成在注入头与衬底表面之间注入轴承气体，因此该轴承气体形成气体轴承；以及传送系统，该传送系统提供衬底和注入头沿着衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送衬底的传送平面。将支承部分安排成与注入头相对，该支承部分被构造成提供在传送平面中平衡注入头气体轴承的气体轴承压强布局，以便衬底被所述气体轴承压强布局无支承地保持在注入头与支承部分之间。

公开(公告)号：CN104911564A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201510239478.4

申请日：2010-07-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： A·J·P·M·维梅尔 ,  G·P·简森

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  F16C29/025 ,  F16C32/0622

Abstract: 一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：注入头，所述注入头包括配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从前驱供给口经由沉积空间到前驱排放口的前驱气流；沉积空间在使用时由注入头和衬底表面界定；包括轴承气体注入器的气体轴承，该轴承气体注入器安排成在注入头与衬底表面之间注入轴承气体，因此该轴承气体形成气体轴承；以及传送系统，该传送系统提供衬底和注入头沿着衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送衬底的传送平面。将支承部分安排成与注入头相对，该支承部分被构造成提供在传送平面中平衡注入头气体轴承的气体轴承压强布局，以便衬底被所述气体轴承压强布局无支承地保持在注入头与支承部分之间。

公开(公告)号：CN102498236B

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201080040823.7

申请日：2010-07-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： A·J·P·M·维梅尔 ,  G·P·简森

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  F16C29/025 ,  F16C32/0622

Abstract: 一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：注入头，所述注入头包括配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从前驱供给口经由沉积空间到前驱排放口的前驱气流；沉积空间在使用时由注入头和衬底表面界定；包括轴承气体注入器的气体轴承，该轴承气体注入器安排成在注入头与衬底表面之间注入轴承气体，因此该轴承气体形成气体轴承；以及传送系统，该传送系统提供衬底和注入头沿着衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送衬底的传送平面。将支承部分安排成与注入头相对，该支承部分被构造成提供在传送平面中平衡注入头气体轴承的气体轴承压强布局，以便衬底被所述气体轴承压强布局无支承地保持在注入头与支承部分之间。