电子设备中的真空浸渍密封

    公开(公告)号:CN110740603B

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN201910447397.1

    申请日:2019-05-27

    申请人: 苹果公司

    IPC分类号: H05K5/06 H04M1/18

    摘要: 本发明题为“电子设备中的真空浸渍密封”。本发明公开了一种电子设备。电子设备可包括壳体,该壳体包括金属带和壁。电子设备还可包括填充化合物,该填充化合物被定位在金属带的开口中,其中两个侧壁部件之间的裂缝限定开口。填充化合物提供通过壳体的RF通信路径。为了减少或防止液体进入到壳体中,电子设备可包括密封化合物,该密封化合物注入到填充化合物和侧壁部件之间的开口中,从而提供密封。注入过程包括将金属带(具有填充化合物)放置在室中,提供真空以移除金属带和填充化合物之间的空气,并且随后提供正压力以迫使密封化合物位于金属带和填充化合物之间。密封化合物可包括粘合剂。

    电子设备中的真空浸渍密封

    公开(公告)号:CN110740603A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201910447397.1

    申请日:2019-05-27

    申请人: 苹果公司

    IPC分类号: H05K5/06 H04M1/18

    摘要: 本发明题为“电子设备中的真空浸渍密封”。本发明公开了一种电子设备。电子设备可包括壳体,该壳体包括金属带和壁。电子设备还可包括填充化合物,该填充化合物被定位在金属带的开口中,其中两个侧壁部件之间的裂缝限定开口。填充化合物提供通过壳体的RF通信路径。为了减少或防止液体进入到壳体中,电子设备可包括密封化合物,该密封化合物注入到填充化合物和侧壁部件之间的开口中,从而提供密封。注入过程包括将金属带(具有填充化合物)放置在室中,提供真空以移除金属带和填充化合物之间的空气,并且随后提供正压力以迫使密封化合物位于金属带和填充化合物之间。密封化合物可包括粘合剂。