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发明公开
超声设备及其形成方法、超声组件及其形成方法审中-实审

公开(公告)号：CN118847483A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202410484445.5

申请日：2024-04-22

Applicant: 英飞凌科技股份有限公司

Inventor： K·伊利安 , D·欧博迈尔 , E·施托斯库

IPC: B06B1/06

Abstract: 提供了一种超声设备及其形成方法、超声组件及其形成方法。该超声设备包括至少一个微机械超声换能器MUT和电耦合到至少一个MUT的处理电路系统。至少一个MUT和处理电路系统被封装在嵌入式晶片级球栅阵列eWLB封装中。用于将至少一个MUT声耦合到外部应用表面的声耦合介质被形成在至少一个MUT上。

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