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公开(公告)号:CN106061218A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201610412201.1
申请日:2016-06-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/00 , H05K9/0086
Abstract: 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法,其包括以下步骤:1)在导电基板上涂布光刻胶,然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构;2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层,形成金属图形结构;3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内,形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点,可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。
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公开(公告)号:CN205686055U
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201620328096.9
申请日:2016-04-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: B44C5/04
Abstract: 本实用新型提出一种玻璃表面装饰薄膜,包括基材层,为透明膜层;微结构层,设置于所述基材层的一侧,其上设有均匀分布的微柱面透镜结构;粘接层,设置于所述基材层相对于所述微结构层的另一侧,为透明的具有粘接性的胶质层。本实用新型的玻璃表面装饰薄膜,通过在薄膜上形成微柱面透镜结构,从而在宏观效果上具有特殊的视觉效果,应用于产品表面,起到了装饰、品牌保护、成本控制、环保各方面的效果,更符合科技产品的发展需求。
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