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公开(公告)号：CN117107205A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311159010.5
申请日：2023-09-09
申请人： 苏州艾钛科纳米科技有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 一种基于磁场和电场高度正交的高离化磁控溅射设备，包括炉体，炉体中设有水平电场以及与水平电场高度正交的周向闭合磁场和/或垂直磁场，水平电场由磁控溅射靶和/或辅助电子源配合中心阳极和/或侧阳极构成，周向闭合磁场由周向布置的多组磁控溅射靶和/或多组电磁线圈构成，垂直磁场由垂直布置的两组电磁线圈构成。本申请在炉体中构建水平电场以及与水平电场高度正交的周向闭合磁场和/或垂直磁场，通过调节电磁线圈中的电流强度以调整约束强度，对电子形成约束，使得电子在朝向阳极运动过程中产生拉莫尔螺旋运动，增大电子的运动轨迹，产生大量的碰撞，提高等离子体的离化率，提高靶面前的等离子体密度和离化，提高溅射粒子的离化率。
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公开(公告)号：CN117107206A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311159793.7
申请日：2023-09-09
申请人： 苏州艾钛科纳米科技有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 一种基于热电子放电的高离化磁控溅射设备，包括炉体，炉体中设有垂直电场以及与垂直电场高度正交的周向闭合磁场和/或水平磁场，垂直电场由辅助电子源和阳极构成，周向闭合磁场由多组磁控溅射靶和/或多组电磁线圈构成，水平磁场由电磁线圈和/或聚焦线圈构成。本申请通过辅助电子源和阳极构建垂直电场，通过多组磁控溅射靶和/或多组电磁线圈构建周向闭合磁场，或通过设置两组相对布置的电磁线圈和/或设置一组聚焦线圈构建水平磁场，并使得垂直电场与周向闭合磁场和/或水平磁场高度正交；如此，电子在朝阳极运动的过程中，被正交电磁场约束，形成螺旋运动，可增大电子运动轨迹，可提高碰撞几率，提高离化率与离子密度。
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公开(公告)号：CN220637592U
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202322041109.7
申请日：2023-08-01
申请人： 苏州艾钛科纳米科技有限公司
IPC分类号： B25B11/00
摘要： 本实用新型公开了一种阶梯钻用三维夹具，涉及阶梯钻生产技术领域，包括底座，所述底座包括底盘和安装杆，所述底盘顶部的中心位置处固定连接有安装杆，所述底座上设置有若干个夹具台，所述夹具台的轴中心处开设有安装孔，若干个所述夹具台通过安装孔可拆卸安装在安装杆上，若干个所述夹具台的顶部设置有上夹装机构，若干个所述夹具台的底部设置有下夹装机构，所述底座的右侧设置有拨叉机构。插销拨齿夹装和套管夹具可以在拨叉机构的作用下，实现三维转动，通过上下颠倒且相互错位设置的插销拨齿夹装和套管夹具可以卡装阶梯钻，这样可以实现锥形工件及阶梯钻的上下叠装，可以在原有装载基础上，提升60％以上的装载量。
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公开(公告)号：CN220637411U
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202322041179.2
申请日：2023-08-01
申请人： 苏州艾钛科纳米科技有限公司
摘要： 本实用新型公开了杆状刀自动抛光后处理设备，涉及杆状刀具加工技术领域，包括安装板；第一移动机构，位于所述安装板的顶部，用于进行前后水平移动与限位；第二移动机构，位于所述第一移动机构的顶部，用于进行左右水平移动与限位；旋转夹持机构，位于所述第二移动机构的顶部，用于对待抛光的工件进行夹持与固定；杆状刀具，位于所述旋转夹持机构内；抛光机构，位于所述第一移动机构的左侧，用于对杆状刀具进行抛光作业。通过第一移动机构、第二移动机构、旋转夹持机构和抛光机构相互配合对杆状刀具的待抛光区域进行全区域抛光，保障了杆状刀具的抛光质量，提高了加工精度，控制了抛光设备的整体体积，操作更加简单方便。
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公开(公告)号：CN220643248U
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202322173613.2
申请日：2023-08-14
申请人： 苏州艾钛科纳米科技有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种柱状球类工件真空镀膜用夹具，涉及真空镀膜辅助设备技术领域，包括固定支撑杆，所述固定支撑杆的上端固定连接有环形板，所述环形板上左右对称开设有安装孔，且所述固定支撑杆通过安装孔与环形板连接形成固定支撑架，所述环形板的底部设置有拨叉组件，所述拨叉组件由若干个拨叉杆组成，所述固定支撑架内设置有转动框架，所述转动框架的内部设置有三维笼式机构。通过三维笼式机构、转动框架、环形板和固定支撑杆结构的设置，实现三维笼式机构的三维转动，三维笼式机构在转动的时候同时，使笼体进行自转，该结构的稳定强，能够保证笼体时时转，从而实现球类工件或柱状体工件的全方位镀膜。
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