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发明公开
一种磁共振成像优化方法审中-实审

公开(公告)号：CN119471518A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411642330.0

申请日：2024-11-18

Applicant: 苏州科技城医院

Inventor： 马新伟 , 王晓彦 , 庞洪权 , 汪溢 , 沈利利 , 杜昊 , 徐文静

IPC: G01R33/48 , G01R33/28 , A61B5/055

Abstract: 本发明涉及一种磁共振成像方法，尤其涉及一种磁共振成像优化方法，其中包括：提供辅助材料和保护垫，将待检测部位的底部和侧部借助保护垫进行包覆，并将辅助材料覆盖在待检测部位上，然后启动MRI设备对覆盖有辅助材料的待检测部位进行成像；其中，待检测部位具有第一磁化率，辅助材料具有第二磁化率，第一磁化率与第二磁化率数值相匹配。借由本发明的结构，可通过辅助材料于待检测部位的覆盖，并保持相近的磁化率，脂肪抑制效果不彻底，产生伪影的问题，提高成像质量。

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