公开(公告)号：CN120055982A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202510535996.4

申请日：2025-04-27

Applicant: 苏州大学

Inventor： 樊成 ,  韩之 ,  陈涛 ,  梁福生 ,  王钊 ,  孟彬彬 ,  齐学 ,  李轩 ,  朱铭鲁

IPC: B24B31/10 ,  B24B31/12 ,  B24B1/00 ,  B24B49/00 ,  G01N11/00 ,  G01N15/06

Abstract: 本发明公开了一种多层电极式电流变抛光装置及其使用和抛光区域预测方法，其中抛光区域预测方法，包括：推导抛光装置的电场强度与位置的关系，计算产生电流变效应的抛光液粘度与电场强度以及抛光液固相颗粒的浓度之间的关系，分析形成链状结构中磨料颗粒的受力情况，预测能够使得材料去除的抛光区域。本发明公开了一种多层电极式电流变抛光装置及其使用和抛光区域预测方法，具有良好的电场强度，抗剪切屈服能力更强，提高柔性抛光头强度，电场线分布紧密，附带大量磨粒与工件表面接触，提高抛光效率，降低生产成本。