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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106568643B
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201610985522.0
申请日：2016-11-09
Applicant: 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种测定氧化铝样品中杂质含量的方法及样品预处理方法，该样品预处理方法包括：使待测氧化铝样品与高氯酸和浓磷酸混合后加热溶解，得到待测溶液，其中，相对于1克的所述待测氧化铝样品，所述高氯酸的用量为12‑16毫升，所述浓磷酸的用量为70‑76毫升；该方法样品溶解完全，操作简便，可以避免在高压密闭处理条件中的过压和强酸泄漏的安全隐患。本公开还提供测定氧化铝样品中杂质含量的方法，该方法将Si元素和其他杂质元素分别单独采用等离子发射光谱检测仪测定，避免了Si元素和其余杂质元素的谱线干扰，提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN106525561B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201610956262.4
申请日：2016-11-03
Applicant: 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种测定玻璃中铂和铑含量的方法，该方法包括以下步骤：a、将玻璃粉与高氯酸和氢氟酸混合，然后进行水热处理，得到待测溶液，其中，相对于1克的所述玻璃粉，所述高氯酸的用量为6‑10毫升，所述氢氟酸的用量为16‑20毫升，所述水热处理在水热合成反应釜中进行；b、采用等离子发射光谱检测仪检测步骤a中得到的所述待测溶液中铂和铑的含量。本公开采用水热合成反应釜，在具有一定温度和压力的水热条件下使高氯酸和氢氟酸溶解玻璃粉，规避了传统测试方法采用铂铑坩埚对测试结果的影响，操作简单，快速高效，检出限低，测定结果具有较高的准确性。
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公开(公告)号：CN106525561A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201610956262.4
申请日：2016-11-03
Applicant: 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种测定玻璃中铂和铑含量的方法，该方法包括以下步骤：a、将玻璃粉与高氯酸和氢氟酸混合，然后进行水热处理，得到待测溶液，其中，相对于1克的所述玻璃粉，所述高氯酸的用量为6-10毫升，所述氢氟酸的用量为16-20毫升，所述水热处理在水热合成反应釜中进行；b、采用等离子发射光谱检测仪检测步骤a中得到的所述待测溶液中铂和铑的含量。本公开采用水热合成反应釜，在具有一定温度和压力的水热条件下使高氯酸和氢氟酸溶解玻璃粉，规避了传统测试方法采用铂铑坩埚对测试结果的影响，操作简单，快速高效，检出限低，测定结果具有较高的准确性。
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公开(公告)号：CN106568643A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201610985522.0
申请日：2016-11-09
Applicant: 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种测定氧化铝样品中杂质含量的方法及样品预处理方法，该样品预处理方法包括：使待测氧化铝样品与高氯酸和浓磷酸混合后加热溶解，得到待测溶液，其中，相对于1克的所述待测氧化铝样品，所述高氯酸的用量为12‑16毫升，所述浓磷酸的用量为70‑76毫升；该方法样品溶解完全，操作简便，可以避免在高压密闭处理条件中的过压和强酸泄漏的安全隐患。本公开还提供测定氧化铝样品中杂质含量的方法，该方法将Si元素和其他杂质元素分别单独采用等离子发射光谱检测仪测定，避免了Si元素和其余杂质元素的谱线干扰，提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN206240900U
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201621189318.X
申请日：2016-10-31
Applicant: 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种盘刷和基板玻璃清洗机，所述盘刷包括盘刷底座(1)和刷体，所述刷体包括与所述盘刷底座(1)同轴心设置的圆柱形海绵刷(3)，以及沿周向均布在所述海绵刷(3)外侧的毛刷(2)。盘刷在高速运动中，由于毛刷(2)的离心力作用，在海绵刷(3)区域形成低压。由于这种压力差的形成，使得清洗液会源源不断的从毛刷(2)区域渗入到海绵刷(3)区域，从而使得盘刷与基板玻璃表面之间充分润滑，提升了清洗效果。所述基板玻璃清洗机通过使用所述盘刷，能够提升良品率。
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