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公开(公告)号：CN101506103A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200680037533.0
申请日：2006-10-04
Applicant: 艾威普科公司
CPC classification number: C02F1/48 , C02F2201/483
Abstract: 一种流体处理装置，包括连接到第一、第二和第三导体的AC电力源。电磁场生成装置安置在流体导管附近，电连接到第一和第三导体以形成第一电路。第二电磁场生成装置安置在第二流体导管附近，电连接到第二和第三电导体以形成第二电路。第一电路中的电路元件在第一电路中在AC波形的第一半期间在所述第一电磁场生成装置处发起高频电磁场，并且第二电路中的电路元件在第二电路中在AC波形的第二半期间在所述第一电磁场生成装置处发起高频电磁场。
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