公开(公告)号：CN118843712A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202380026316.5

申请日：2023-03-07

申请人： 艾克斯特朗欧洲公司

发明人： T·克鲁肯 ,  J·布卢姆 ,  B·希奈勒

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/30 ,  B01D5/00 ,  B01D8/00 ,  B01D53/00

摘要： 本发明涉及一种用于运行CVD反应器的方法，其中，在过程室(2)中在一个或多个衬底上沉积一个或多个层之后，通过清洁气体清洁过程室(2)的一个或多个表面以去掉其上附着的沉积物，其中，清洁气体与载气一起通过清洁气体入口(3)输入过程室(2)中，其流过被置于第一高温(T1)的过程室(2)、在此与沉积物发生化学反应生成气态的反应产物并且反应产物由载气作为废气通过气体出口(5)在低于所述第一高温(T1)的第一低温(T2)下输送到气体清洁设备(6、7)，其中，气体清洁设备(6,7)具有预处理设备(7)，在预处理设备(7)中反应产物在高于所述第一低温(T2)的第二高温(T3)下预处理，并且其中，预处理过的反应产物输送到冷却井(6)，在冷却井中反应产物在低于所述第二高温(T3)的第二低温(T4)下冷凝。为了提高气体清洁的效率，建议将冷却到最高160℃的废气在预处理设备(7)中用气体加热设备(8)总体加热到更高的优选200℃的温度，以便在之前冷却中形成的附聚物再次分解。

公开(公告)号：CN104087912A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201410191366.1

申请日：2014-02-17

申请人： 艾克斯特朗欧洲公司

发明人： T·克鲁肯 ,  B·P·戈皮 ,  M·道尔斯伯格

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 本发明涉及一种用于CVD反应器的气体分配器，所述气体分配器具有至少两个相互分隔的气体分配室(10、20)，能够分别通过进气孔(2、3)向所述气体分配室中输入处理气体，其中，被布置在上平面内的气体分配装置分别与被布置在下平面内的连接管路(13、23)流体连通地连接，其中，属于不同气体分配室(10、20)的连接管路(13、23)交替地相邻布置，并且具有用于输出处理气体的出气孔(14、24)。为了对气体分配装置进行改进，这里建议，数量至少为两个的气体分配装置中的每一个具有分配区段(12、22)，所述分配区段分别与多个二次分配区段(11、21)流体连通地连接，其中，所述连接管路(13、23)分别与多个二次分配区段(11、21)在互相不同的位置上流体连通地连接，其中，互相不同的气体分配室(10、20)的二次分配区段(11、21)交替地相邻布置，并通过分隔壁(9)互相分隔。