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发明公开
基板处理装置及基板处理方法有权

公开(公告)号：CN111048388A

公开(公告)日：2020-04-21

申请号：CN201910957784.X

申请日：2019-10-10

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 肖特 , 拉克尔 , 言 , 具滋明 , 安宗焕

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置及基板处理方法，基板处理装置的特征在于，包括：处理腔室，提供基板处理空间；卡盘部件，设置于所述处理腔室内并支承基板；环部件，以围绕所述卡盘部件的方式提供；边缘电极，使与所述卡盘部件电绝缘的方式布置于所述环部件；边缘阻抗控制器，与所述边缘电极电连接并调节所述边缘电极的电位；以及耦合补偿器，连接于所述卡盘部件与所述边缘电极之间，并以能够抵消或调节所述卡盘部件与所述边缘电极之间的耦合的方式提供。

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