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发明公开
气体分离膜及气体分离膜的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN117917263A

公开(公告)日：2024-04-23

申请号：CN202311354633.8

申请日：2023-10-18

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 堀内雄太 , 宫泽弘 , 松本康享 , 岩上欧史 , 高津直树

IPC: B01D69/12 , B01D71/70 , B01D71/48 , B01D53/22 , B01D71/10 , B01D71/06 , B01D67/00

Abstract: 提供气体的选择分离性及透过性良好的气体分离膜及气体分离膜的制造方法。气体分离膜的特征在于具有：第一层；以及第二层，设置于所述第一层的一个面，由具有气体分离能力的化合物构成，所述第二层的平均厚度比所述第一层平均厚度薄，所述第二层是喷墨覆膜。此外，所述化合物优选包含来自PET、POM、PLA、PDMS、纤维素或偶联剂的结构。

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