输送装置以及处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112645126B

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202011048470.7

    申请日:2020-09-29

    Abstract: 本发明公开了输送装置以及处理装置,不受介质的种类影响,能够良好地矫正记录后的介质的偏斜。该输送装置具备向输送方向输送通过记录部进行记录后的介质(12)的输送路(17)以及与输送路(17)中输送的介质(12)的前端接触来调整介质的输送状态的接触部(41)。输送路(17)具有将输送的介质(12)向接触部(41)引导的引导部(47),引导部(47)具有能够摆动的第一引导部(43)以及与第一引导部(43)对置且能够摆动的第二引导部(44),第一引导部(43)和第二引导部(44)被设置成在输送路(17)中未输送介质(12)时配置于待机位置,且能够从待机位置向彼此远离对方侧的方向移动。

    记录系统
    2.
    发明公开
    记录系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN115674916A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202210880102.1

    申请日:2022-07-25

    Abstract: 本发明涉及记录系统。在后处理装置大型化的情况下,难以支承后处理装置,在将后处理装置伸到下方的情况下,可能难以操作处理部。记录系统(1)具备打印机(10)、后处理装置(60)以及设置于打印机(10)的设置区域(S1)的外侧的地板部(2)的第一支承部(102)。打印机(10)具有通过从装置主体(12)向外侧移动而能够进行处理的手动托盘(18)及开闭部(34)。后处理装置(60)相对于移动后的手动托盘(18)及开闭部(34)位于Z方向的上方。第一支承部(102)形成使手动托盘(18)及开闭部(34)能够移动的空间部(103)并且支承后处理装置(60)。

    后处理装置及记录装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107618924A

    公开(公告)日:2018-01-23

    申请号:CN201710555619.2

    申请日:2017-07-10

    Abstract: 本发明提供后处理装置及记录装置,能够更适当地抑制被记录的记录介质的变形而进行处理。后处理装置具备:后处理部,进行被记录的记录介质的后处理;变形抑制单元,抑制在输送所述记录介质的输送路径、或载置记录介质的载置部中的记录介质的变形,变形抑制单元基于与对于记录介质的记录处理相关的预定的参数而被控制。

    介质处理装置及其控制方法、以及记录系统

    公开(公告)号:CN118082402A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202311555121.8

    申请日:2023-11-21

    Abstract: 本发明提供一种应对想要在不通过处理部而进行处理的条件下就此排出介质的用户需求的介质处理装置及其控制方法、以及记录系统。介质处理装置具备处理托盘、将介质向处理托盘进给的进给辊、和从处理托盘排出介质的排出辊对,排出辊对具备第一辊和第二辊,该第二辊能够对在与第一辊之间可夹持介质的第一状态、和与夹持状态相比而与第一辊较远离的第二状态进行切换,控制第二辊的状态切换的控制部能够对在将第二辊设为第二状态的状态下通过进给辊而将介质进给至处理托盘并载置且将第二辊从第二状态切换为第一状态而排出的第一模式、和在维持第二辊的第一状态的同时通过进给辊和排出辊对而将介质在不载置于处理托盘的条件下排出的第二模式进行切换。

    记录系统及记录系统的控制方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116353206A

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202211674340.3

    申请日:2022-12-26

    Abstract: 本发明提供记录系统及记录系统的控制方法,通过维护动作能够在不降低记录质量的情况下提高处理速度。在以盖从维护位置向分离位置的位移为基准而测量的时间超过了规定时间时,能够通过液体的喷出来执行维护动作。在记录作业中的记录动作开始前,使第一张介质在液体喷头的上游的介质能够待机的待机位置待机。盖在记录作业中的第一张介质在待机位置待机时位于分离位置。在初始控制期间,能够在维护动作的同时执行对比第一张数少的第二张数的介质的后处理动作,在初始控制期间结束后,能够在维护动作的同时执行对第一张数的介质的后处理动作。

    介质处理装置、记录系统以及装置单元

    公开(公告)号:CN111153273B

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201911088518.4

    申请日:2019-11-08

    Abstract: 公开了一种介质处理装置、记录系统以及装置单元。在具备第一处理部的介质处理装置上以简单结构且保养性良好地追加第二处理部。此外,避免了追加的第二处理部妨碍从第一托盘上取出介质,第一托盘载置经第一处理部处理后的介质。介质处理装置具备:第一单元,具备对从第一接收部接收的介质进行第一处理的第一处理部以及将从第一接收部接收的介质不经由第一处理部而送出的送出部;以及第一托盘,设置在第一单元的外侧,接受从第一单元排出的第一处理后的介质;第一单元构成为在第一托盘的下方可拆装第二单元,第二单元具备接收从送出部送出的介质的第二接收部以及对从第二接收部收到的介质进行第二处理的第二处理部。

    光学传感器的校正值取得方法及记录装置

    公开(公告)号:CN100522635C

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200610151640.8

    申请日:2006-09-07

    CPC classification number: B41J11/0095 B41J11/46

    Abstract: 本发明提供一种光学传感器的校正值取得方法及记录装置,其中,备有可检测出纸张搬送路径的反射率差的光学传感器的记录装置,取得所传送的纸张上端边缘位置,并印刷校正值取得图案(200),所述校正值取得图案包括位于从取得的上端边缘位置在副扫描方向上离开距离Lr且平行于主扫描方向的基准线,并以平行于主方向的线在副方向隔开一定间隔的方式以台阶状记录而构成。在作业者通过实测对记录于在副扫描方向上从纸张上端离开距离Lr的位置的线进行指定后,将该指定线的编号发送到记录装置。记录装置,根据接收的线编号来求取指定的线和基准线的副扫描方向间隔Hr,并将该副扫描方向间隔Hr作为所述光学传感器的校正值Hp的绝对值。

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