-
公开(公告)号：CN119861472A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411450095.7
申请日：2024-10-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02B15/14 , G02B15/16 , G02B15/167 , G02B15/177 , G02B13/00 , G02B13/18 , G02B1/04 , G03B21/14
Abstract: 提供多焦点透镜、投影仪以及拍摄装置。使多焦点透镜进一步小型化。多焦点透镜(40)由多个透镜组(41、42、43、44、45)构成，焦点位置通过使透镜组(41、42、43、44、45)的位置变化而变化，其中，关于多焦点透镜(40)的倍率色差特性，广角端的像差量和望远端的像差量中较大一方的像差量小于广角端与望远端之间的中间区域的像差量。
-
公开(公告)号：CN103856765B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201310524659.2
申请日：2013-10-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H04N9/31
CPC classification number: G03B21/204 , G03B21/2053 , G03B21/2073 , G03B21/208 , G03B33/12 , H04N9/3152 , H04N9/3164
Abstract: 本发明涉及投影机。提供可以维持投影图像的白平衡的投影机。包括固体光源、扩散构件、激励光源、荧光体、光调制装置、投影光学系统、第1遮光构件和第2遮光构件；在设从扩散光的光轴的方向看时的第1遮光构件的开口部的面积为第1开口面积A1、设从扩散光的光轴的方向看时的第1遮光构件对扩散光进行遮光的部分的面积为第1遮光面积A2、设从荧光的光轴的方向看时的第2遮光构件的开口部的面积为第2开口面积B1、设从荧光的光轴的方向看时的第2遮光构件对荧光进行遮光的部分的面积为第2遮光面积B2时，第1遮光面积A2相对于第1开口面积A1之比A2／A1比第2遮光面积B2相对于第2开口面积B1之比B2／B1大。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104570566A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201410538710.X
申请日：2014-10-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/006 , G03B21/204 , G03B21/206 , G03B21/208 , H04N9/3102 , H04N9/3105 , H04N9/3108 , H04N9/3111 , H04N9/3114 , H04N9/3117 , G03B21/2013
Abstract: 本发明涉及投影机。提供具备射出窄波段的光的光源装置且可以进行对亮度不匀和/或色不匀进行了抑制的图像的投影的投影机。投影机具备光源装置、对从光源装置射出的光相应于图像信息进行调制的光调制装置及对在光调制装置调制的光进行投影的投影光学系统。光源装置射出具有光强度在第1波长(λ1)处成为峰值的窄波段的第1光(La)及光强度在第2波长(λ2)处成为峰值的窄波段的第2光(Lb)的光，第1波长(λ1)与第2波长(λ2)的间隔超过相对于光调制装置的入射光的射出光的分光光谱所具有的波纹之中的位于第1光(La)及第2光(Lb)的波长范围的波纹的1个周期波长的1/4且不足3/4。
-
公开(公告)号：CN103856765A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201310524659.2
申请日：2013-10-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H04N9/31
CPC classification number: G03B21/204 , G03B21/2053 , G03B21/2073 , G03B21/208 , G03B33/12 , H04N9/3152 , H04N9/3164
Abstract: 本发明涉及投影机。提供可以维持投影图像的白平衡的投影机。包括固体光源、扩散构件、激励光源、荧光体、光调制装置、投影光学系统、第1遮光构件和第2遮光构件；在设从扩散光的光轴的方向看时的第1遮光构件的开口部的面积为第1开口面积A1、设从扩散光的光轴的方向看时的第1遮光构件对扩散光进行遮光的部分的面积为第1遮光面积A2、设从荧光的光轴的方向看时的第2遮光构件的开口部的面积为第2开口面积B1、设从荧光的光轴的方向看时的第2遮光构件对荧光进行遮光的部分的面积为第2遮光面积B2时，第1遮光面积A2相对于第1开口面积A1之比A2／A1比第2遮光面积B2相对于第2开口面积B1之比B2／B1大。
-
公开(公告)号：CN104570566B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410538710.X
申请日：2014-10-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/006 , G03B21/204 , G03B21/206 , G03B21/208 , H04N9/3102 , H04N9/3105 , H04N9/3108 , H04N9/3111 , H04N9/3114 , H04N9/3117
Abstract: 本发明涉及投影机。提供具备射出窄波段的光的光源装置且可以进行对亮度不匀和/或色不匀进行了抑制的图像的投影的投影机。投影机具备光源装置、对从光源装置射出的光相应于图像信息进行调制的光调制装置及对在光调制装置调制的光进行投影的投影光学系统。光源装置射出具有光强度在第1波长(λ1)处成为峰值的窄波段的第1光(La)及光强度在第2波长(λ2)处成为峰值的窄波段的第2光(Lb)的光，第1波长(λ1)与第2波长(λ2)的间隔超过相对于光调制装置的入射光的射出光的分光光谱所具有的波纹之中的位于第1光(La)及第2光(Lb)的波长范围的波纹的1个周期波长的1/4且不足3/4。
-
公开(公告)号：CN101191906B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200710196335.5
申请日：2007-11-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 河村昌和
CPC classification number: G02B27/286 , G02B27/0927 , G02B27/0994
Abstract: 本发明涉及一种光学元件及投影机，其尽可能抑制从光学元件所射出的光束的偏振度及均匀度的下降，并容易谋求小型化，且容易制造。光学元件(1)，具备：将进行入射的光束变换成具有更均匀的面内光强度分布的光束的第1棒状部(10)，在来自笫1棒状部(10)的光束之中对与一方的直线偏振分量(P偏振分量)相关的光束进行反射并使与另一方的直线偏振分量(S偏振分量)相关的光束进行透射的反射型偏振分离部(12)，和将对反射型偏振分离部(12)进行了透射的光束变换成具有更均匀的面内光强度分布的光束的第2棒状部(14)。
-
公开(公告)号：CN101191906A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200710196335.5
申请日：2007-11-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 河村昌和
CPC classification number: G02B27/286 , G02B27/0927 , G02B27/0994
Abstract: 本发明涉及一种光学元件及投影机，其尽可能抑制从光学元件所射出的光束的偏振度及均匀度的下降，并容易谋求小型化，且容易制造。光学元件(1)，具备：将进行入射的光束变换成具有更均匀的面内光强度分布的光束的第1棒状部(10)，在来自第1棒状部(10)的光束之中对与一方的直线偏振分量(P偏振分量)相关的光束进行反射并使与另一方的直线偏振分量(S偏振分量)相关的光束进行透射的反射型偏振分离部(12)，和将对反射型偏振分离部(12)进行了透射的光束变换成具有更均匀的面内光强度分布的光束的第2棒状部(14)。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.027 seconds)
