光射出装置以及图像显示系统

    公开(公告)号:CN110032033B

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN201910023050.4

    申请日:2019-01-10

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供光射出装置以及图像显示系统,能够采用阵列化的透镜实现装置的小型化和组装精度的降低,并抑制由于阵列化的透镜引起的强度偏差、衍射的产生,从而维持良好的光的射出状态。采用由多个小透镜(331、431)构成的光学元件(33、43)。在此基础上,并且,多个小透镜(331、431)的阵列间距P相对于准直器(32、42)的焦距f处于根据两者的比例关系确定的规定的数值范围内。

    投影机
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104635407B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201410640302.5

    申请日:2014-11-13

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供关于位置精度提高容许性、使图像的对比度提高、且在投影的图像的画面内使得亮部与暗部的边界不显著地进行控制例如可以对波纹的产生进行抑制而能够提供良好的图像的投影机。在中继光学系统(40)中,通过具有光偏转构件(OC),相对于所通过的光线束,表现使光偏转的作用,由此能够调整为,成为在色调制光阀(50g、50r、50b)中的成像位置处光线束剖面具有适当的大小(扩展)的状态,即成为不完全地成像的模糊存在的状态。由此,能够对波纹进行抑制而使良好的图像形成。

    投影光学系统及具备它的投影机

    公开(公告)号:CN102841434B

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201210212611.3

    申请日:2012-06-21

    CPC classification number: G02B13/08 G02B13/16 G03B21/142 G03B33/12

    Abstract: 本发明提供平衡地提高光的利用效率的投影光学系统及嵌有其的投影机。物体侧透镜组20b在液晶面板18G(18R,18B)的纵向和横向具有不同放大率,因此,即使作为投影光学系统20的全系统,在纵横向具有不同焦距,纵横向的放大倍率也成为不同,液晶面板18G(18R,18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可以形成为不同。即,通过本投影光学系统20,可进行宽高比即横纵比的变换。此时,光圈70和物体侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式,因此,在纵向和横向的双方可以确保一定以上的远心性。

    投影光学系统及具备其的投影机

    公开(公告)号:CN103091848A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210411733.5

    申请日:2012-10-25

    Abstract: 本发明提供可以实现横纵比的变换、并且可以调整与横纵比的变换相伴的投影图像的位置偏离的投影光学系统及具备其的投影机。由于第2组(40)在液晶面板(18G、18R、18B)的纵方向和横方向具有不同的放大率,所以能够使液晶面板(18G、18R、18B)的图像的横纵比与在屏幕上投影的图像的横纵比不同。也就是说,通过本投影光学系统(20),可以进行宽度与高度之比即横纵比的变换。此时,在横纵比的变换即投影状态的切换时,能够通过第4驱动机构(64)和/或第1驱动机构(61)的移位工作或变焦工作调整屏幕上的图像位置。

    投影光学系统及具备它的投影机

    公开(公告)号:CN102841434A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201210212611.3

    申请日:2012-06-21

    CPC classification number: G02B13/08 G02B13/16 G03B21/142 G03B33/12

    Abstract: 本发明提供平衡地提高光的利用效率的投影光学系统及嵌有其的投影机。物体侧透镜组20b在液晶面板18G(18R,18B)的纵向和横向具有不同放大率,因此,即使作为投影光学系统20的全系统,在纵横向具有不同焦距,纵横向的放大倍率也成为不同,液晶面板18G(18R,18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可以形成为不同。即,通过本投影光学系统20,可进行宽高比即横纵比的变换。此时,光圈70和物体侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式,因此,在纵向和横向的双方可以确保一定以上的远心性。

    投影光学系统及具备该投影光学系统的投影机

    公开(公告)号:CN102830578A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201210197106.6

    申请日:2012-06-14

    CPC classification number: G02B13/12 G02B13/16 G03B21/142 G03B33/12

    Abstract: 提供能防止投影机的大型化和图像的退化的投影光学系统及组装这个投影光学系统的投影机。第2组40关于液晶面板18G(18R、18B)的纵横方向有不同的放大率,作为包含第1组30的投影光学系统20的全系统,在纵横方向也有不同的焦点距离,液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比也可不同。另外,通过在靠近液晶面板18G(18R、18B)的第2组40设置的第1光学要素组41、42、141、142,对关于纵横方向的放大率设置差使横纵比变化,在靠近液晶面板18G(18R、18B)的位置沿着比较靠近像高的路径使各像高的光线通过变得容易,光线的控制变得容易,可以提高性能。

    投影机
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104570561B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201410561603.9

    申请日:2014-10-21

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供一种投影机,该投影机具有作为在光路上串联配置的2个空间调制元件的第1像素矩阵和第2像素矩阵,小型、远心性好、且能够高性能地维持成像状态。通过在中继光学系统(40)中具有双高斯透镜(41g、41r、41b)和配置成分别向双高斯透镜(41g、41r、41b)侧凸出的1对凹凸透镜(42g、43g、42r、43r、42b、43b),能够充分抑制从调光光阀(30g、30r、30b)到色调制光阀(50g、50r、50b)之间的像差的发生,高性能地维持成像状态,进而能够使图像形成良好。

    激光投影机
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104181758B

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201410219388.4

    申请日:2014-05-22

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供能够一边维持光源的输出和/或可靠性一边实现高解析度化的激光投影机。该激光投影机具备:光源;将从所述光源出射的光进行二维扫描的扫描单元;通过将来自于所述扫描单元的光按预定的聚光角度聚光而形成中间像的聚光光学系统;和将所述中间像投影到被投影面上的投影透镜,所述聚光角度比从所述光源出射的光的发散角度大。

    投影机
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104765083A

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201510214289.1

    申请日:2012-01-13

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供可以切实地抑制斑点噪音的投影机。具备:光源(11),其射出激光;第1扩散部(12),其对从光源(11)射出的激光进行扩散而使其作为第1扩散光射出;以及光调制元件(20),其对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行调制;其中,光调制元件(20),具有对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行扩散而使其作为第2扩散光射出的第2扩散部(16);第2扩散部(16)与光调制元件(20)一体地设置;从第2扩散部(16)射出的第2扩散光的扩散强度分布为跨该第2扩散光的中心轴连续的分布。

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