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公开(公告)号：CN116260411A
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202211561611.4
申请日：2022-12-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。在振动元件的制造方法中，振动元件包括具有第1面和第2面的第1振动臂和第2振动臂，该制造方法包括：准备工序，准备石英基板；第1保护膜形成工序，在石英基板的第1基板面形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1保护膜进行干蚀刻；第2保护膜形成工序，在石英基板的第2基板面形成第2保护膜；以及第2干蚀刻工序，隔着第2保护膜进行干蚀刻，在第1干蚀刻工序中，从第1面到第2面形成第1振动臂和第2振动臂的外形，在第2干蚀刻工序中，不形成第1振动臂和第2振动臂的外形。
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公开(公告)号：CN114978096A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210161347.9
申请日：2022-02-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法。提供能够抑制槽深度的偏差的振动元件的制造方法。振动元件的制造方法包括：准备工序，准备具有第1面和第2面的石英基板；保护膜形成工序，在石英基板的第1面上，在除了形成槽的槽形成区域以及位于形成第1振动臂的第1振动臂形成区域与形成第2振动臂的第2振动臂形成区域之间的臂间区域之外形成保护膜；以及干蚀刻工序，隔着保护膜从第1面侧对石英基板进行干蚀刻，形成槽和第1振动臂以及第2振动臂的外形。而且，在设干蚀刻工序中形成的槽的深度为Wa、外形的深度为Aa时，满足Wa/Aa
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公开(公告)号：CN116015236A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211285050.X
申请日：2022-10-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。振动元件的制造方法包括：第1底膜形成工序，在石英基板的第1基板面中的第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域形成第1底膜；第1保护膜形成工序，在第1底膜中的第1堤部形成区域形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1底膜和第1保护膜对石英基板进行干蚀刻；第2底膜形成工序，在石英基板的第2基板面中的第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域形成第2底膜；第2保护膜形成工序，在第2底膜中的第2堤部形成区域形成第2保护膜；以及第2干蚀刻工序，隔着第2底膜和第2保护膜对石英基板进行干蚀刻。
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公开(公告)号：CN116232277A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211540132.4
申请日：2022-11-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。振动元件的制造方法包括：第1保护膜形成工序，在石英基板的第1基板面形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，从第1基板面侧进行干蚀刻，形成第1槽以及第1振动臂和第2振动臂的外形；第2保护膜形成工序，在石英基板的第2基板面形成第2保护膜；以及第2干蚀刻工序，从第2基板面侧进行干蚀刻，形成第2槽以及第1振动臂和第2振动臂的外形，在第1干蚀刻工序中，将第1振动臂和第2振动臂的外形形成到比形成第2槽的底面的位置更靠近第2基板面侧。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116054767A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211315911.4
申请日：2022-10-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。在振动元件的制造方法中，该振动元件具有第1振动臂和第2振动臂，第1振动臂和第2振动臂分别具有处于正反关系的第1面和第2面以及在第1面开口的带底的槽，制造方法包括：第1保护膜形成工序，形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1保护膜进行干蚀刻而形成槽以及第1振动臂和第2振动臂的外形；以及第2保护膜形成工序，在槽中形成第2保护膜；第2干蚀刻工序，隔着第2保护膜进行干蚀刻，形成第1面以及第1振动臂和第2振动臂的外形。
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公开(公告)号：CN116054768A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211328490.9
申请日：2022-10-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。振动元件的制造方法包括：第1保护膜形成工序，形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1保护膜进行干蚀刻而形成第1槽和振动臂的外形；第2保护膜形成工序，在第1槽中形成第2保护膜；第2干蚀刻工序，隔着第2保护膜进行干蚀刻；第3保护膜形成工序，形成第3保护膜；以及第3干蚀刻工序，隔着第3保护膜进行干蚀刻而形成第2槽和振动臂的外形；第4保护膜形成工序，在第2槽中形成第4保护膜；以及第4干蚀刻工序，隔着第4保护膜进行干蚀刻。
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公开(公告)号：CN115882802A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211172459.0
申请日：2022-09-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。包括在石英基板的第1基板面上形成保护膜的保护膜形成工序以及隔着保护膜对石英基板进行干蚀刻的干蚀刻工序，在设位于形成第1振动臂的第1振动臂形成区域和形成第2振动臂的第2振动臂形成区域之间的臂间区域中的保护膜的厚度为T1、形成槽的槽形成区域中的保护膜的厚度为T2、第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域中除槽形成区域以外的区域中的保护膜的厚度为T3时，保护膜满足T1
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公开(公告)号：CN114826183A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210099654.9
申请日：2022-01-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。提供槽深的偏差较少、可得到稳定振动特性的振动元件的制造方法。在振动元件的制造方法中，该振动元件的制造方法具有基部以及从所述基部沿着第1方向延伸并沿着与所述第1方向交叉的第2方向排列的第1振动臂和第2振动臂，在所述第1振动臂的两主面和所述第2振动臂的两主面具有带底的槽，该制造方法包含：准备工序，准备石英基板；保护膜形成工序，在所述石英基板的除了槽区域以外的区域形成保护膜，所述槽区域是形成所述槽的区域；以及干蚀刻工序，隔着所述保护膜对所述石英基板进行干蚀刻而形成所述槽，设置在所述第1振动臂和所述第2振动臂中的至少任意一方上的所述槽具有沿着所述第2方向排列的第1槽和第2槽。
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