公开(公告)号：CN100381390C

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN200410070358.8

申请日：2004-07-29

Applicant: 科发伦材料株式会社

Inventor： 小林庆朗 ,  市岛雅彦 ,  横山优

IPC: C04B35/00 ,  C04B35/50 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  C23F4/00 ,  B01J19/02

CPC classification number: C23C30/00 ,  C23C4/04 ,  C23C4/11

Abstract: 一种耐等离子体构件，它具有一种基底材料和一层Y2O3制成的涂层，所述涂层在上述基底材料的一个表面上形成。该涂层具有一厚度为10μm或大于10μm，并且涂层的Y2O3含有在100ppm-1000ppm范围内的固溶体Si。