公开(公告)号：CN113755801B

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202111092164.8

申请日：2021-09-17

Applicant: 福州大学

Inventor： 李强 ,  林志程

IPC: C23C14/34 ,  B21J5/00 ,  C21D1/26 ,  C21D8/02 ,  C22F1/04

Abstract: 本发明公开了一种具有均匀取向的高纯铝靶材的制备方法。本发明的制备方法包括预先热处理、多向热锻、中间退火、热轧、再结晶退火。将多向锻造和热轧的变形特点相结合，获得变形均匀且具有足够大储存能的铝板，最后再通过对再结晶退火加热速率及温度的控制，得到晶粒尺寸小于100μm的高纯铝靶材，同时使得高纯铝靶材（200）面取向含量在40%以上，取向在不同厚度上分布一致。较小的晶粒尺寸和均匀的取向分布保证了靶材具有高溅射效率的同时，溅射速率也较为稳定，有利于提高溅射薄膜的质量。

公开(公告)号：CN113755801A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202111092164.8

申请日：2021-09-17

Applicant: 福州大学

Inventor： 李强 ,  林志程

IPC: C23C14/34 ,  B21J5/00 ,  C21D1/26 ,  C21D8/02 ,  C22F1/04

Abstract: 本发明公开了一种具有均匀取向的高纯铝靶材的制备方法。本发明的制备方法包括预先热处理、多向热锻、中间退火、热轧、再结晶退火。将多向锻造和热轧的变形特点相结合，获得变形均匀且具有足够大储存能的铝板，最后再通过对再结晶退火加热速率及温度的控制，得到晶粒尺寸小于100μm的高纯铝靶材，同时使得高纯铝靶材（200）面取向含量在40%以上，取向在不同厚度上分布一致。较小的晶粒尺寸和均匀的取向分布保证了靶材具有高溅射效率的同时，溅射速率也较为稳定，有利于提高溅射薄膜的质量。