一种电解纯铜的深低温成形方法

    公开(公告)号:CN110184552A

    公开(公告)日:2019-08-30

    申请号:CN201910637997.4

    申请日:2019-07-16

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开一种电解纯铜的深低温成形方法,其是先将电解纯铜在装配有环境箱的万能试验机上进行2~4道次的等径角挤压,然后将挤压后的样品在液氮中浸泡20-30分钟,随后取出,在轧机上进行多道次冷轧变形,再经退火处理,即可得到晶粒尺寸为500nm~20μm的铜样。本发明可在短时间内获得均匀的等轴再结晶小晶粒,极大提高纯铜的强度。

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