用于自动聚焦的设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107490920B

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201710040869.2

    申请日:2017-01-20

    Abstract: 本发明涉及一种用于自动聚焦的设备。所述用于自动聚焦的设备包括:第一框架,所述第一框架具有磁体;第二框架,所述第二框架具有用于将所述第一框架在光轴方向上移动的自动聚焦(AF)线圈和向所述磁体提供吸引力的磁轭;以及多个球,所述多个球布置在所述光轴方向上并且位于所述第一框架和所述第二框架之间,使得将所述第一框架和所述第二框架保持为彼此分隔开。基于所述光轴方向,所述多个球的整体高度等于或高于所述磁体的高度。

    用于自动聚焦的设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107490920A

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201710040869.2

    申请日:2017-01-20

    Abstract: 本发明涉及一种用于自动聚焦的设备。所述用于自动聚焦的设备包括:第一框架,所述第一框架具有磁体;第二框架,所述第二框架具有用于将所述第一框架在光轴方向上移动的自动聚焦(AF)线圈和向所述磁体提供吸引力的磁轭;以及多个球,所述多个球布置在所述光轴方向上并且位于所述第一框架和所述第二框架之间,使得将所述第一框架和所述第二框架保持为彼此分隔开。基于所述光轴方向,所述多个球的整体高度等于或高于所述磁体的高度。

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