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公开(公告)号：CN1942957A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580011294.7
申请日：2005-04-08
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261
Abstract: 本发明涉及一种母盘基片、一种用于制造高密度浮雕结构的方法和使用该高密度浮雕结构复制的光盘，所述母盘基片包括基片层(10)和沉积在基片层上的记录叠层，所述记录叠层包括：掩模层(12)、夹在所述掩模层和基片之间的界面层(11)，所述掩模层包括用于形成表示编码数据图案的标记和间隔的记录材料，所述标记的形成是通过聚焦激光束进行热变进行的，并且所述标记具有与未记录的材料不同的相态。一种非常高密度的浮雕结构被获得。
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