公开(公告)号：CN101283286A

公开(公告)日：2008-10-08

申请号：CN200680037023.3

申请日：2006-09-14

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： Z·翟 ,  M·A·莫里希 ,  G·D·德梅斯特

IPC: G01R33/32 ,  G01R33/3415

CPC classification number: G01R33/5612 ,  G01R33/246 ,  G01R33/3415

Abstract: 在一种发射装置中，多信道射频发射机(30，46)包括定义至少两个独立工作的发射信道的多个发射元件(32)。发射配置选择器(54)确定所选择的发射配置(60)，所选择的发射配置(60)指定为了在与射频发射机相耦合的对象(38)的对应选择区域(90)中产生B1场而应用到每一个发射信道的幅度和相位。发射配置选择器基于该对象的B1映射(58)和使用至少两个不同的B1场质量测度的B1场质量评估，来确定所选择的发射配置。

公开(公告)号：CN1714300A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200380103637.3

申请日：2003-10-29

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： S·M·什瓦特斯曼 ,  M·A·莫里奇 ,  G·D·德梅斯特

IPC: G01R33/421

CPC classification number: G01R33/385 ,  G01R33/421 ,  G01R33/4215

Abstract: 用于磁共振成像装置(10)的梯度线圈包括定义内圆柱面(60)的初级线圈(16)，和定义同轴的外圆柱面(62)的一个屏蔽线圈(18)或多个线圈。线圈跳变(74)连接初级和屏蔽线圈(16、18)。线圈跳变(74)定义非平面的电流共享表面(64)，该电流共享表面在分别与内圆柱面(60)和外圆柱面(62)一致的内、外轮廓(66、68)之间延伸。线圈(16、18、74)定义多次穿过位于内、外轮廓(66、68)之间的电流共享表面(64)的电流路径。任选地，电互连一些初级线圈匝(70)以定义隔离的初级子线圈(P2)，该初级子线圈和第二屏蔽(S2、S2′、S2”)共同允许离散地或连续地可选择的视场。

公开(公告)号：CN100568015C

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200480032215.6

申请日：2004-10-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·A·莫里奇 ,  G·D·德梅斯特 ,  Z·翟

IPC: G01R33/32

CPC classification number: G01R33/583 ,  G01R33/4835

Abstract: 使用设置成在感兴趣区域中产生B1磁场的射频线圈(40)执行成像对象(16)的感兴趣区域的多切片磁共振成像。一个或多个处理器(44，82，88，110)为每个切片确定B1场值，其代表在所述切片的选定区域上的B1场，从而解决了对象对BI场的影响，并且为每个切片确定被调节的每切片射频激发，其将所述切片的B1场值调节到选定值。磁共振成像系统(10，44，46，50，52)使用每个切片的被调节的每切片射频激发采集该切片的磁共振成像数据。重建处理器(58)将被采集的磁共振成像数据重建为重建图像表示。

公开(公告)号：CN1875286A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480032215.6

申请日：2004-10-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·A·莫里奇 ,  G·D·德梅斯特 ,  Z·翟

IPC: G01R33/32

CPC classification number: G01R33/583 ,  G01R33/4835

Abstract: 使用设置成在感兴趣区域中产生B1磁场的射频线圈(40)执行成像对象(16)的感兴趣区域的多切片磁共振成像。一个或多个处理器(44，82，88，110)为每个切片确定B1场值，其代表在所述切片的选定区域上的B1场，从而解决了对象对BI场的影响，并且为每个切片确定被调节的每切片射频激发，其将所述切片的B1场值调节到选定值。磁共振成像系统(10，44，46，50，52)使用每个切片的被调节的每切片射频激发采集该切片的磁共振成像数据。重建处理器(58)将被采集的磁共振成像数据重建为重建图像表示。