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公开(公告)号:CN119452733A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202380050828.5
申请日:2023-08-08
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: H05G1/26
Abstract: 本发明涉及一种用于确定X射线管(100)的发射电流的装置,以及包括这种装置的X射线管和X射线系统。该装置包括:传感器(110),其被配置成用于确定X射线管(100)的发射电流(107,108);以及第一X射线管导线(111)和第二X射线管导线(112),其被配置成用于操作X射线管(100)。传感器(110)被布置在位于X射线管的高电压电位侧的第一X射线管导线(111)处和第二X射线管导线(112)处。传感器(110)被配置和布置成用于测量由在传感器(110)处叠加的磁场产生的合成磁场。该装置被配置成用于基于合成磁场来确定X射线管(100)的发射电流(107,108)。本发明还涉及一种霍尔传感器用于测量X射线管的发射电流的用途。