一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法

    公开(公告)号:CN116242241A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202310191640.4

    申请日:2023-03-02

    Abstract: 本发明公开了一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法,首先构建一个低频磁感应测厚装置,利用低频的动态磁场作为激励源。在此基础上,基于标准基底通过数据降维、多周期平均建立标准基底建立厚度曲线,再基于没有涂镀覆层的待测基底建立与标准基体的校准关系,最后获得的特征量经过校准关系得到校准后的特征量,并通入厚度曲线得到待测基底涂镀覆层厚度。本发明利用低频的动态磁场作为激励源,降低磁感应测厚与测量基底的相关性,消除基底磁滞对涂镀覆层厚度测量结果的影响,同时,对采集数据为多个周期磁滞回线进行降维、平均,相对于现有的单点磁芯信号,更为精准地反应了涂镀覆层的厚度,因此,本发明提升磁感应测厚法的测量精度。

    一种基于扫频涡流的涂覆层厚度测量方法

    公开(公告)号:CN116678305A

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202310741533.4

    申请日:2023-06-20

    Abstract: 本发明公开了一种基于扫频涡流的涂覆层厚度测量方法,先制作不同标准厚度的多个塑料片替代非导电涂覆层,再将塑料片依次放置在金属基体上,然后基于扫频涡流厚度检测平台采集特定频段内足够多的电涡流数据,通过matlab对电涡流数据拟合,得到涂覆层厚度与阻抗虚部变化量最小值关系式,最后在涂覆层厚度实际测量时,只需检测平台测量出被测试件的电涡流数据,从而计算出阻抗虚部变化量最小值,通过关系式换算出涂覆层厚度。

    一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法

    公开(公告)号:CN112432588B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202011422827.3

    申请日:2020-12-08

    Abstract: 本发明公开了一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法,先根据激励线圈、铁芯、磁传感器和被测试件等搭建吸波涂层厚度测量模型,测量模型搭建完成后,依次增大激励线圈中的电流,当测量磁性图层达到磁饱和状态时,通过磁传感器测量出设置点处的磁感应强度,并记录下此时的电流,以及移除被测试件后设置点的磁感应强度,然后根据测量模型,构建设置点处的磁感应强度数学模型,最后反解磁感应强度数学模型得到涂层厚度。

    一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法

    公开(公告)号:CN112432588A

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN202011422827.3

    申请日:2020-12-08

    Abstract: 本发明公开了一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法,先根据激励线圈、铁芯、磁传感器和被测试件等搭建吸波涂层厚度测量模型,测量模型搭建完成后,依次增大激励线圈中的电流,当测量磁性图层达到磁饱和状态时,通过磁传感器测量出设置点处的磁感应强度,并记录下此时的电流,以及移除被测试件后设置点的磁感应强度,然后根据测量模型,构建设置点处的磁感应强度数学模型,最后反解磁感应强度数学模型得到涂层厚度。

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