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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112507527B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202011321346.3
申请日：2020-11-23
Applicant: 电子科技大学
IPC: G06F30/20 , G06F111/06 , G06F119/02
Abstract: 本发明公开了一种用于回旋器件的多螺线管磁体设计方法，属于微波毫米波技术领域。本发明通过理论计算得到当前螺线管参数对应下的理论磁场分布，对比给定的磁场分布数据，通过特定的表征方法计算两者的加权方差，用此加权方差作为当前模型参数的适应度，将此作为目标函数用计算机进行寻找最佳参数；本发明还通过加入磁场沿轴向的梯度误差表征来修正特殊形位，通过分布形位差值表征和沿轴向的梯度差值对螺线管参数进行联合修正，对磁场分布的一些特殊形位以及全局误差都起到了很好地作用，速度更快、准确度更高。
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公开(公告)号：CN113821915A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202111008887.5
申请日：2021-08-31
Applicant: 电子科技大学
IPC: G06F30/20
Abstract: 本发明公开了一种电子光学系统的快速计算方法，属于电子真空技术仿真计算领域。本发明将轴对称电子光学系统降为二维，在二维平面进行网格划分并进行电场的迭代计算，将得到的二维电场分布拓展后，得到电子光学系统内完整的三维电场分布，结合计算得到的电子光学系统内的磁场分布，由轨迹计算方程计算出电子在电子光学系统中的运动轨迹，最后由电子的运动轨迹得到空间电荷效应电场分布，通过多次迭代对内部电场进行修正，最终完成计算。本发明通过降维的方式将三维电场的求解转换至二维电场求解，大幅减少了计算求解时间，然后通过轨迹计算方程计算出电子完整运动轨迹，在高频领域其轨迹更加精确。
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公开(公告)号：CN113821915B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202111008887.5
申请日：2021-08-31
Applicant: 电子科技大学
IPC: G06F30/20
Abstract: 本发明公开了一种电子光学系统的快速计算方法，属于电子真空技术仿真计算领域。本发明将轴对称电子光学系统降为二维，在二维平面进行网格划分并进行电场的迭代计算，将得到的二维电场分布拓展后，得到电子光学系统内完整的三维电场分布，结合计算得到的电子光学系统内的磁场分布，由轨迹计算方程计算出电子在电子光学系统中的运动轨迹，最后由电子的运动轨迹得到空间电荷效应电场分布，通过多次迭代对内部电场进行修正，最终完成计算。本发明通过降维的方式将三维电场的求解转换至二维电场求解，大幅减少了计算求解时间，然后通过轨迹计算方程计算出电子完整运动轨迹，在高频领域其轨迹更加精确。
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公开(公告)号：CN115345052A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210998708.5
申请日：2022-08-19
Applicant: 电子科技大学
IPC: G06F30/23 , G06F111/04
Abstract: 本发明公开了一种用于回旋器件线圈磁体和电子枪协同优化设计方法，属于微波毫米波技术领域。本发明首先建立多线圈位形参数与三维磁场分布间的映射关系；然后建立电子枪二维平面中的电势分布，在给定磁场分布下求解电子注运动轨迹；建立电子枪电极结构参数与电子注性能参数间的映射关系；再建立电子枪性能参数与电子枪电极形状和螺线管位形参数间的映射关系；最后建立评估电子注质量的适应度函数，引入全局优化算法实现电子枪性能的优化设计。本发明设计自由度高、通用性高，可实现高性能综合设计，并且还具有计算速度快、精度高、数值计算稳定性好的优势。
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公开(公告)号：CN112507527A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011321346.3
申请日：2020-11-23
Applicant: 电子科技大学
IPC: G06F30/20 , G06F111/06 , G06F119/02
Abstract: 本发明公开了一种用于回旋器件的多螺线管磁体设计方法，属于微波毫米波技术领域。本发明通过理论计算得到当前螺线管参数对应下的理论磁场分布，对比给定的磁场分布数据，通过特定的表征方法计算两者的加权方差，用此加权方差作为当前模型参数的适应度，将此作为目标函数用计算机进行寻找最佳参数；本发明还通过加入磁场沿轴向的梯度误差表征来修正特殊形位，通过分布形位差值表征和沿轴向的梯度差值对螺线管参数进行联合修正，对磁场分布的一些特殊形位以及全局误差都起到了很好地作用，速度更快、准确度更高。
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