-
公开(公告)号：CN112287512A
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN202010915520.0
申请日：2020-09-03
Applicant: 电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种关联1/4周期实际轴向磁场的周期永磁聚焦系统设计方法，属于真空电子技术领域。本发明是基于实验中得出的起始1/4轴之后，理想轴上磁场分布和实际轴上磁场分布差异不大的特点；通过拟合起始1/4磁场分布曲线 得到拟合起始1/4轴上磁场点分布，然后将其与理想轴上起始1/4轴后面的磁场拼接的方式，解决了现有技术中，因添加的理想轴上磁场分布后的电子枪计算出的电子注与添加实际PPM磁场计算的电子注相差很大，导致仿真行波管时需要重新设计电子枪的问题。与现有技术先比，本发明提供的电子枪设计优化方案，无需再重新设计电子枪，简化了设计程序，节约时间成本。
-
公开(公告)号：CN112287512B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202010915520.0
申请日：2020-09-03
Applicant: 电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种关联1/4周期实际轴向磁场的周期永磁聚焦系统设计方法，属于真空电子技术领域。本发明是基于实验中得出的起始1/4轴之后，理想轴上磁场分布和实际轴上磁场分布差异不大的特点；通过拟合起始1/4磁场分布曲线得到拟合起始1/4轴上磁场点分布，然后将其与理想轴上起始1/4轴后面的磁场拼接的方式，解决了现有技术中，因添加的理想轴上磁场分布后的电子枪计算出的电子注与添加实际PPM磁场计算的电子注相差很大，导致仿真行波管时需要重新设计电子枪的问题。与现有技术先比，本发明提供的电子枪设计优化方案，无需再重新设计电子枪，简化了设计程序，节约时间成本。
-
Search Results
2
records
(took 0.018 seconds)
